판매용 중고 DNS / DAINIPPON SC-W60A-AVG #293748583

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AVG Photoresist Equipment는 석판화 마스크 및 웨이퍼 처리를 위해 특별히 설계된 첨단 최첨단 솔루션입니다. 이 기계는 감광 소재의 고정밀도, 고속 처리를 제공하여 복잡한 설계를 빠르고 정확하게 구성 할 수 있습니다 (영문). DNS SC-W60A-AVG는 RIE-Etch 가스 공급 시스템, 고성능 컴퓨터 및 로터리 처리 장치 (스테퍼 모터, 컨트롤러 및 X, Y 좌표 제어에 대한 2 축 포함) 로 구성됩니다. RIE-Etch 가스 공급 장치 (RIE-Etch gas supply unit) 는 고급 기화기를 특징으로하여 웨이퍼 표면의 에칭 깊이를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 비디오 모니터가 내장되어 있어, 사용자가 처리 중에 웨이퍼를 모니터링할 수 있습니다. 고성능 컴퓨터는 감광 물질의 정확한 처리에 필요한 정밀도를 달성할 책임이 있습니다. 즉, 자동화된 처리와 에칭 심도 및 프로파일을 효과적으로 제어할 수 있습니다. 또한 에치 (etch) 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 사용자는 즉시 매개변수를 조정하여 최적의 결과를 얻을 수 있습니다. 회전 처리 장치에는 고급 스테퍼 모터 및 컨트롤러가 포함되어 있으며 X, Y 좌표 제어의 경우 2 개의 축이 있습니다. 이것 은 감광 물질 의 정확 한 처리 를 보장 해 주며, 감광 물질 을 "스테퍼 모터 '에 매우 정밀 하게 배치 해 준다. 이것은 마스크 또는 웨이퍼 정렬이 효과적인 에칭 및 증착에 중요한 경우 특히 중요합니다. 전반적으로 DAINIPPON SC-W60A-AVG Photoresist Asset은 고정밀, 고속 감광 물질 처리를위한 고급 기계입니다. 이 기계는 RIE-Etch 가스 공급 모델, 고성능 컴퓨터, 회전 처리 장치 (Rotary Processing Unit) 를 포함한 구성 요소를 통해 복잡한 설계를 정확하고 적시에 구성하도록 설계되었습니다. 광범위한 자동화 기능은 정확한 처리를 보장하는 반면, 실시간 모니터링 장비는 사용자에게 직접 피드백 (feedback) 루프를 제공하여 즉석 조정이 가능합니다. 이 시스템은 광범위한 리소그래피 마스크 및 웨이퍼를 처리할 때 탁월한 정밀도 (precision) 와 제어 (control) 기능을 제공합니다.