판매용 중고 DNS / DAINIPPON SC-60BW-AV #9235498

DNS/DAINIPPON SC-60BW-AV 포토 esist 장비는 IC, 광전자 및 MEM (microelectromchanical) 장치와 같은 얇은 기판의 작은 기능을 에칭하기위한 효율적인 시스템입니다. 이 장치는 저항 물질이 다른 파장의 빛에 화학적으로 노출되는 이중 저항 (dual-resist) 과정을 사용합니다. 이 과정 은 기질 과 광저장제 사이 의 접착력 을 향상 시켜 "에치 '기능 을 향상 시킨다. DNS SC-60BW-AV 기계는 포토 esist를 UV 레이저 빛의 빔에 노출시켜 작동합니다. 이것은 기질의 표면을 선택적으로 에칭하는 화학 반응을 유발합니다. "레이저 '의 파장 은 다른" 에치' 깊이 를 이루기 위하여 조정 할 수 있다. 이 도구는 매우 작은 피쳐 (예: 선 또는 점) 를 너비 몇 미크론까지 생성할 수 있습니다. 정밀도 에칭 (etching) 을 보장하기 위해서는 에셋의 저항 재료를 원하는 파장에 맞게 조정해야합니다. 광학 피드백 (Optical Feedback) 과 정밀 빔 (Precision Beam) 컨트롤을 조합하면 모델이 정확도가 높은 정밀하게 튜닝 된 저항 패턴을 생성할 수 있습니다. 장비는 또한 사용 중인 재료에 따라 에치 프로파일 (etch profile) 을 빠르게 조정하는 자동 교정 프로세스를 특징으로합니다. 에칭 결과를 실시간으로 표시하는 이미지 디스플레이 장치 (image display unit) 도 통합됩니다. 이를 통해 엔지니어는 에치 (etch) 피쳐의 품질을 빠르게 평가하고 원하는 결과를 얻기 위해 필요한 조정을 할 수 있습니다. 최대 효율성을 보장하기 위해 DAINIPPON SC-60BW-AV 포토레스 장치 (photoresist unit) 에는 에칭 과정에서 발생하는 열을 줄이는 고급 냉각기가 장착되어 있습니다. 이것은 기판의 손상을 방지하면서 정밀 에칭을 보장하는 데 도움이됩니다. 전반적으로 SC-60BW-AV 포토 esist 도구는 얇은 기판에서 미세한 기능을 에칭하기위한 효과적인 도구입니다. 엔지니어는 이중 저항 프로세스 (dual-resist process) 와 자동 교정 (automated calibration) 을 사용하여 정확한 에치 패턴을 쉽게 만들 수 있습니다. 자산은 신뢰할 수 있고, 효율적이며, 미학적으로 유쾌하여 얇은 기판 에치 (etch) 공정에 적합합니다.