판매용 중고 DNS / DAINIPPON KSPIN8 #99526

DNS/DAINIPPON KSPIN8은 반도체 산업의 구성요소를 정확하게 패턴화 할 수있는 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 첨단 기술은 유명한 DNS KURE 저항 기술과 스핀 코팅 (spin-coating) 및 베이킹 (baking) 을 통합하여 고품질 반도체 장치 생산에서 탁월한 결과를 얻습니다. 이 시스템은 회전 기술을 사용하여 고유 한 액체 광자연을 웨이퍼 (wafer) 표면에 증착시켜 작동합니다. 그 후, 적합 한 광원 에 노출 된 다음 에 정확 한 "베이크 '와" 에치' 공정 이 뒤따른다. DNS KSPIN8 장치는 포토 esist 액체를 웨이퍼 표면에 완벽하게 통합하는 정확한 스핀 코팅 기술을 갖추고 있습니다. DAINIPPON 기계의 스핀 코팅 공정은 저항 층의 균일 성을 달성합니다. 이를 통해 반도체 장치를 제작할 때 뛰어난 해상도, 정밀한 리소그래피, 최고 수율을 보장할 수 있습니다. 이 도구를 사용하면 적용된 저항층 (resist layer) 의 정확한 제어 및 정확한 측정이 가능합니다. 이러한 포토 esist 프로세스에 대한 정확한 제어는 우수한 해상도, 더 나은 에지 음향, 우수한 표면 마무리를 초래합니다. DAINIPPON KSPIN8 자산은 다양한 유형의 이미징 광원을 수용할 수 있으므로 장치 제작에 적합합니다. 또한 KSPIN8 (KSPIN8) 에는 결함의 형성을 줄이고 웨이퍼에 그린 뛰어난 해상도, 높은 정확도 패턴을 보장하는 정확한 베이킹 모델이 포함되어 있습니다. "베이킹 '공정 은 또한 사용 된" 레지스트' 의 종류 에 따라 조정 될 수 있으며, 이것 은 석판 영상 의 정밀도 와 전반적 인 생산률 을 향상 시키는 데 도움 이 된다. DNS/DAINIPPON KSPIN8 장비는 또한 다른 에치 프로세스와 호환되므로 웨이퍼 표면에서 원하는 패턴을 달성 할 수 있습니다. 전반적으로 DNS KSPIN8 시스템은 정확성과 정확성으로 반도체 장치를 성공적으로 제작하는 데 이상적입니다. 최첨단 방적기술과 "베이킹 (baking) '과" 에칭 (etching)' 기능을 결합해 최고 품질의 장치를 생산한다. 정밀 제어 (precision control) 는 또한 안정적인 프로세스 제어 및 생산성을 가능하게하여 고도로 정교한 반도체 장치 제조에 적합합니다.