판매용 중고 DNS / DAINIPPON 80B #9257028
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DNS/DAINIPPON 80B는 인쇄/반도체 산업에서 사용하도록 특별히 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 용매 기반 유닛 (solvent-based unit) 이자 음성과 양성 사진술사에 모두 사용될 수있는 리소그래피 (lithography) 의 고급 재료 개발입니다. DNS 80B의 포토 esist는 두 가지 성분, 폴리스티렌 수지 및 단량체로 구성된다. 폴리스티렌 수지는 100% 스티렌 단량체에서 유래 한 반면, 단량체는 할로겐 함유 물질을 갖는 변형 된 스티렌으로 구성된다. 이 두 가지 구성 요소 를 사용 하면, 그 재료 의 기계적· 화학적 특성 을 구체적 인 적용 요건 에 부합 하도록 사용자 정의 할 수 있다. photoresist 조합의 구성 요소는 빛에 노출 될 때 두 가지 중요한 작업을 수행합니다. 첫째, 폴리스티렌 수지는 노출 (빛) 에서 에너지를 흡수하고 사슬의 교차 연결 (cross-linking) 을 구축합니다. 이것 은 "포토레지스트 '를 경화 시키고 기판 에 인쇄 되는 필요 한" 패턴' 을 만든다. 포토 esist의 단량체는 다른 특성을 담당합니다. 자외선에 노출 될 때, 중합 반응을 일으켜, 파괴산, 알칼리 및 기타 용매에 강한 복잡한 중합체 네트워크를 생성한다. 이것 은 "반도체 '제조 공정 에 사용 되는 기본적 인" 에칭' 및 청소 공정 에 노출 되면 광소시스트 가 안정 되어 있음 을 보장 해 준다. DAINIPPON 80B 기계는 2 성분 폴리머 구조 때문뿐만 아니라 필름 형성 기능 때문에 독특합니다. 구리, 텅스텐, 팔라듐과 같은 모든 유형의 기질에 매우 적합합니다. 이 공구는 기판에 대한 우수한 접착력을 가진 유연하고 탄력적인 필름 레이어로 형성 될 수있다. 또한, 이 자산은 일반적인 포토 esist 액체 및 용매에 강합니다. 또한 80B는 환경 친화적 인 포토 esist이기도합니다. 일본 환경부 (Ministry of the Environment) 가 제기 한 엄격한 환경 안전 요구 사항을 충족하도록 설계되었으며, VOC 배출량은 30ppm 미만입니다. 이 모델은 모든 실험실 요구 사항을 충족하며 일부 프로세스에 대해 유럽 연합 (EU) 의 승인을 받았습니다. 전반적으로 DNS/DAINIPPON 80B 포토 esist 장비는 리소그래피의 고급 재료 개발로 뛰어난 광학 성능, 뛰어난 필름 접착 및 광학 특성, 환경 친화적 인 기능을 제공합니다. 이 "시스템 '은 요구 되는" 반도체' 응용 프로그램 을 위한 훌륭 한 사진술사 (photoresist) 특성 을 제공 해 주며, 다양 한 기판 에 광범위 한 "이미지 '를 만들 수 있다.
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