판매용 중고 DNS / DAINIPPON 80B #9225998

DNS/DAINIPPON 80B는 반도체 제조에 사용하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이것 은 "실리콘 웨이퍼 ', 유리," 알루미늄' 및 기타 재료 와 같은 여러 기판 의 표면 에 "포토레지스트 '무늬 와 구조 를 노출 시켜 복잡한 전자 부품 을 제조 하는 데 사용 된다. 산업용으로 적합한 친환경, 고품질 석판화 시스템입니다. 광 이미징 및 고급 사진 화학 에치 마스크 기술을 사용하여 DNS 80B는 서브 미크론 (sub-micron) 기능 크기의 고해상도, 복잡한 구조를 만들 수 있습니다. 마스킹 기술 (Masking Technology), 패턴 (Pattern) 및 노출 (Exposure) 매개변수는 모두 조정이 가능하므로 구성 작업 중에 사용자가 변경할 수 있습니다. 이 장치는 또한 정밀 패턴 최적화를 자랑하며, 이미지 정렬 오류를 0.4 마이크로미터 미만으로 줄일 수 있습니다. 이 광저항 기계 를 사용 할 때, 감광 물질 을 기질 위 로 돌리고, 그 다음 에 자외선 에 노출 시킨다. 그런 다음, 빛은 방사선 민감성 구조의 패턴으로 전환되며, 그 후 노출 후 개발된다. 결과 패턴은 원래 기판과 동일하며, 산업용 용도로 견고하고 내구성이 뛰어납니다. 높은 품질과 정밀도로 인해 DAINIPPON 80B는 다양한 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 여기에는 트랜지스터, 집적 회로, MEMS 구성 요소 및 기타 미세 구조의 제작이 포함됩니다. 또한 MIMA (Multi-Layer Metal Array) 와 같은 컨택트 레이어 (Contact Layer) 및 MOSFET 및 기타 반도체 장치의 기타 컨택트 레이어 (Contact Layer) 를 생성하여 개발 프로세스 속도를 높일 수 있습니다. 80B 포토 esist 도구는 안전과 환경 친화력을 염두에두고 설계되었습니다. 유해 기체의 배출없이, 그리고 낮은 전기 소비로 작동합니다. 또한 유지 보수가 적어 유지 보수 문제 수리를 위한 다운타임이 줄어듭니다. 전반적으로 DNS/DAINIPPON 80B는 반도체 제작에 종사하는 사람들을 위한 탁월한 솔루션을 제공하며, 우수한 속도로 높은 성능과 반복 가능한 결과를 제공합니다. 환경 친화적 자산으로, 패턴 최적화와 사용자 제어 (user control) 기능을 통해 빠르고 정확하게 처리할 수 있습니다.