판매용 중고 DNS / DAINIPPON 80A #9262878

DNS/DAINIPPON 80A는 반도체 및 전자 산업에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 첨단 고성능 포토레시스트 (photoresist) 시스템으로서, 다양한 어플리케이션에 대해 고도의 정밀도 해상도와 뛰어난 결과를 제공합니다. 이 장치는 에칭 (etching), 프로파일 제어 (profile control) 및 높은 종횡비 기능을 통해 다양한 반도체 프로세싱 및 전자 응용 프로그램 (예: 단일 레벨 금속 에칭 및 격리) 에 사용하도록 설계되었습니다. 특히 고해상도 (High Resolution) 와 고해상도 (High Aspect Ratio) 에칭이 필요한 어플리케이션에 인기가 있습니다. DNS 80A 포토 esist 머신은 두 가지 구성 요소로 구성됩니다. 첫 번째 성분은 화학 물질과 사진 필터 촉매의 혼합물 인 화학 물질 (chemical) 입니다. 이 혼합물 은 빛 이 물질 을 통과 시키고, 화학 물질 에 흡수 되어 "포토마스크 '(photomask) 의 특징 들 을 식각 시킨다. 두 번째 구성 요소는 사진 마스크 (사진 마스크) 로, 에칭해야 하는 패턴을 포함합니다. 일반적으로 사진 마스크 (photo mask) 는 마이너스 이미지로, 빛을 통과시켜 원하는 에칭 패턴을 만듭니다. 포토 esist 도구는 습식 및 건식 처리 기술을 모두 사용할 수 있습니다. 습식 가공 을 하면, 화학 물질 을 물 과 혼합 한 다음, 기질 에 적용 시킨다. 그것 이 적용 된 후 에, 광원 을 사용 하여 원하는 "패턴 '을 노출 시키고, 화학 물질 은 용해 되지 않는 형태 로 바꾸어, 그" 패턴' 을 기판 에 에칭 할 수 있게 한다. 건조 처리 를 하면, 화학 물질 을 기질 에 직접 뿌린 다음, 광원 에 노출 시킨다. 이것 은 습식 가공 과 동일 한 영향 을 주지만, 물 의 부가적 인 "단계 '를 피한다. DAINIPPON 80A photoresist 자산은 실리콘, 금속, 중합체 등 다양한 기판 물질로 우수하고 정확한 결과를 제공합니다. 모델은 UV, 발광 다이오드 (LED), 이온 빔 소스와 같은 다양한 광원과 함께 사용할 수 있습니다. 또한, 다양한 에찬트 및 스트리핑 솔루션과 호환됩니다. 장비는 사용하기 쉽고, 매번 일관되고 정확한 결과를 제공합니다. 또한, 매우 비용 효율적이며, 다양한 기존 photomask 시스템과 함께 사용할 수 있습니다. 이 시스템은 다양한 에찬트 (etchant) 와 스트립핑 용매 (stripping solvent) 와 함께 사용할 수 있으므로 더 다양한 기능을 제공합니다. 마지막으로, 이 장치는 다양한 기판 재료와 호환되며, 탁월한 해상도와 종횡비 (Aspect Ratio) 성능을 제공하도록 설계되었습니다.