판매용 중고 DNS / DAINIPPON 80A #9162934

DNS/DAINIPPON 80A는 다양한 전자 및 마이크로 일렉트로닉스 응용 프로그램에서 정확한 제조 공정을 제공하기 위해 설계된 고성능 포토레시스트 (photoresist) 장비입니다. 습식 에치가 필요하지 않은 건조하고 긍정적 인 톤, 단일 레이어 프로세스입니다. 이 시스템은 여러 노출 단계 (exposure steps) 나 프로세스 단계 (process steps) 없이 매우 반복 가능하고 정확한 패턴을 만들 수 있는 장점을 제공합니다. DNS 80A 장치는 초 보라광을 사용하여 화학적으로 증폭되고 패턴 화 된 감광성 폴리 이미 드 실리콘 필름을 사용합니다. 필름은 다양한 지방족 및 방향족 첨가제를 갖는 지방족 실록산 염기 물질로 구성된다. 이 필름은 소수성이며 유기 용매 및 기타 액체에 녹지 않습니다. 기계는 뛰어난 해상도, 균일성 및 패턴 정확도를 제공합니다. 이 제품은 메모리 칩, 논리 장치, 통신 장치, 디스플레이 장치 등 다양한 반도체 장치에서 고밀도, 미세 회선 (fine line) 부품 생산에 적합하도록 설계되었습니다. DAINIPPON 80A 도구는 전반적인 처리 시간 측면에서 매우 효율적입니다. 노출 시간은 매우 빠르며 모든 패턴 크기에 대해 안정적입니다. 자산은 또한 고해상도 수준을 자랑하여 명확하게 정의 된 기능을 정확하게 생성 할 수 있습니다. 이 모델의 패턴 반복성 (pattern repeatability) 도 주목할 만하며, 신뢰할 수있는 공정 수율과 제품 수율을 할당합니다. 템플릿 측면에서, 장비는 리소그래피, 직접 쓰기 (direct-write) 또는 레이저 쓰기 (laser-writing) 기술을 사용하여 만든 다양한 패턴 템플릿을 수용 할 수 있습니다. 또한, 시스템은 지정된 모든 적절한 이미지 형성 파장에 민감하도록 설계되었습니다. 80A 장치는 처리에 위험한 화학 물질이 필요하지 않기 때문에 환경 친화적입니다. 게다가, TCO 는 효율성이 높은 프로세스로 인해 상대적으로 저렴합니다. 또한 기계는 사용 및 작동이 간단합니다. 결론적으로 DNS/DAINIPPON 80A 포토레시스트 (photoresist) 도구는 습식 에칭 또는 다중 노출 단계를 사용하지 않고 매우 정확하고 미세한 선 및 패턴 구성 요소를 생산하기위한 효율적이고 정확하며 신뢰할 수있는 자산입니다. 이 모델은 신속한 노출 시간, 고해상도 (high-resolution), 패턴 반복 가능성, 높은 제품 생산량을 제공하며 친환경적이기도 합니다. 광범위한 전자 및 마이크로 일렉트로닉 어플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.