판매용 중고 DNS / DAINIPPON 80 A / 80 B #9161502

DNS/DAINIPPON 80 A/80 B는 DNS Screen Manufacturing Co.에서 개발 한 포토 esist 장비입니다. 주식회사 (Ltd.) 는 주로 실리콘 반도체 장치 제조에 리소그래피의 포토 esist 소재로 사용됩니다. 이 시스템은 포토레지스트 필름 (photoresist film) 과 개발자 솔루션 (developer solution) 으로 구성되며, 향상된 석판화 성능을 위해 고해상도, 저비용, 프로세스 무결성을 제공하도록 설계되었습니다. 광전 필름 (photoresist film) 은 유기 용매, 일반적으로 메탄올에서 서스펜션 형태의 중합 물질로 구성된다. 그것은 음이온 성 감광제, 광활성 화합물 및 열적으로 변형 가능한 산 촉매를 함유한다. 광감각 분자는 빛에 노출되면, 그들의 형태를 재 배열하여 산 촉매 분자를 형성하고, 이어서, 중합 물질을 경화시키고 저항성 구조를 형성하는 중합 라디칼 (polymerizing radical) 의 방출을 촉매한다. 개발자 용액은베이스 촉매 및 수용성 티올 형 폴리머 물질을 함유하는 희석 수용성 암모니아 기반 용액이다. 이 용액은 탈산화 제 (deacidifying agent) 로서 작용하며, 이는 포토 esist 필름이 빛에 노출 될 때 형성된 저항 구조를 중화시키고 용해시킨다. 이를 통해 노출 된 photoresist 레이어를 보다 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이러한 구성 요소의 조합은 리소그래픽 프로세스에 대한 몇 가지 독특한 이점을 제공합니다. 첫째, 포토 esist 필름에 사용 된 폴리머 물질 (polymeric material) 은 고해상도 이미징 (high resolution imaging) 을 제공하여 광범위한 웨이퍼 크기와 응용 프로그램에 기계를 사용할 수 있습니다. 둘째, 개발자 솔루션은 안정성이 높으며, 장기간 프로세스 무결성을 제공하는 경향이 있으며, 오염 또는 연령으로 인한 감도가 최소화됩니다. 마지막으로, 이 도구는 상대적으로 저렴하여 저렴한 리소그래피 (lithography) 프로세스를 위한 매력적인 옵션입니다. 전반적으로 DNS 80 A/80 B 포토레시스트 자산은 광범위한 반도체 제조 응용 프로그램을 위해 고해상도, 저비용, 프로세스 무결성 지향 석판 재료를 제공합니다. 이 모델은 뛰어난 이미징 및 안정성 특성을 통해 다양한 프로세스 (대규모 통합 칩, 소규모 집적 회로, 메모리 칩, 로직 노드 설계) 에 적합합니다.