판매용 중고 DNS / DAINIPPON 629 #9285138

DNS/DAINIPPON 629는 DNS Screen에서 개발 한 긍정적 인 작용, 고해상도 포토 esist 장비입니다. 이 사진 활성 저항은 기존의 노볼락 수지를 기반으로합니다. 이 시스템은 높은 종횡비 접촉 구멍, 참호, 비아 (vias) 패턴화와 같은 반도체 프로세스에 널리 사용됩니다. ULSI 용 기가비트 밀도 기능 생성; 및 패키지 내 단위 기판의 제작을위한 구멍을 통해 마이크로 형성. 기계는 프로필렌 글리콜 모노 메틸 아세테이트 (PGMEA) 및 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르 (PGME) 와 같은 두 가지 극성 용매를 제공합니다. 이 도구는 또한 Deep UV (DUV), ArF Laser, i-line, G-line 및 고해상도 기능과 균일 한 수축을 포함한 다양한 방사선 노출을 제공합니다. 쉽게 노출 할 수 있고, 균일 한 선 및 공간 (L/S) 구조를 생성하며, 접착 및 LER (line edge roughness) 과 같은 훌륭한 필름 특성을 나타냅니다. 이 저항 자산은 또한 CMP 프로세스 동안 최소 저항의 공격적인 절단 (under-cuting) 을 특징으로하며, 다중 레벨 접촉 구멍, 트렌치 및 경유 프로세스에 이상적입니다. 저항 모델의 개선 된 알칼리 개발자는보다 효과적인 에치 프로세스를 가능하게합니다. DNS 629 포토 esist 필름은 높은 종횡비 접촉 구멍 (HAR) 을 달성하기 위해 습식 식각 내성이 좋습니다. 저항 필름은 또한 작은 각도 AC 진폭 프로파일 (예: 낮은 기초 산화물 레벨) 을 갖는 더 깨끗한 측면 벽 프로파일을 얻기 위해 개발 될 수있다. 이 장비는 또한 뛰어난 열 안정성을 제공하여 금속 스퍼터링 (sputtering), 리플로우 (replow) 및 솔더링 (soldering) 과 같은 고온 프로세스에 적합합니다. 또한, DAINIPPON 629 시스템은 유기 용매에 좋은 용해성을 가지고 있으며, 기판 표면에 대한 범프 탑 (bump top) 또는 멀티 레벨 표면의 낮은 거리로 쉽게 적용 가능하고 접착력이 좋습니다. 마지막으로, 629 photoresist 유닛은 뛰어난 재생성을 가지고 있으며 SMIC, UMC 및 IMEC 안전 표준을 충족하는 환경 안전성으로 간주됩니다. 일반적으로, 이 저항 기계는 고급 패키징 및 반도체 공정 응용 프로그램을위한 뛰어난 사진 리토그래피 성능을 제공합니다.