판매용 중고 DNS / DAINIPPON 629 #9220518

DNS/DAINIPPON 629는 일반적으로 반도체 칩 제조를 위해 사진 해설에 사용되는 부정적인 포토 esist 시스템입니다. 광감각제 (photoresist) 라는 감광재가 웨이퍼 위에 코팅된 다음, 강렬한 광원을 가진 마스크를 통해 원하는 패턴이 노출된다. 빛 에 노출 된 부면 들 은 화학적 변화 를 겪게 되며, 그것 들 은 개발 도상용 용액 에서 용해 되지 않게 되며, 발광 되지 않은 부위 는 용해 상태 에 있게 되며, 그것 을 씻어 낼 것 이다. 이렇게 하면 원하는 패턴으로 레이어를 생성할 수 있습니다. 즉, [레이어] 를 선택한 다음 [레이어] 를 최종 제품인 경우 직접 사용할 수도 있고, 디자인을 아래 레이어에 에치할 템플릿 (template) 으로 사용할 수도 있습니다. DNS 629 (DNS 629) 는 네거티브 포토레스 (negative photoresist) 시스템의 고급 변형으로, 독점 재료를 사용하여 더 높은 밀도의 패턴, 복잡한 미세 구조, 더 큰 신뢰성 및 정밀도를 만듭니다. 이 재료는 해상도 기능 (0.5 미크론) 을 향상시켰으며, 다른 포토 esist 재료에 비해 감도와 정확성을 향상시켰다. 선의 극도로 세밀하고 해상도의 정확성으로 인해 DAINIPPON 629 시스템은 여러 프로세스 (특히 소규모 또는 고도로 상세한 패턴을 만들 때) 에 선호되는 선택입니다. 가장 일반적인 응용 분야는 반도체 칩, 박막 디스크 및 자기 기록 헤드입니다. 이 기술은 노출로 인한 최적의 결과를 얻기 위해 특정 특성 (예: 광도, 노출 시간, 파장) 을 가진 광원을 조합해야합니다. 광원이 정확하면 photoresist가 적절하게 반응합니다. photolithography 프로세스가 완료되면 wafer는 추가 처리 준비가 완료되었습니다. 마지막 "웨이퍼 '에는" 마스크' 속 에 인쇄 된 "디자인 '이 무엇 이든 부정적 인 것 이 들어 있다. 그런 다음, 이 부정적 인 설계 를 "에치 '하거나 다른 방법 으로 처리 하여 실제 제품" 패턴' 을 만들거나 직접 "패턴 '을 사용 할 수 있다. 전반적으로, 629 시스템은 높은 정확도와 감도로 인해 반도체 칩 생산을위한 신뢰할 수있는 포토 리토 그래피 (photolithography) 를 제공합니다. 이것은 마이크로 칩 산업에서 인기있는 선택, 특히 매우 작은 규모 또는 복잡한 패턴을 만드는 데 사용됩니다.