판매용 중고 DNS / DAINIPPON 60 #9271552

DNS/DAINIPPON 60은 수성 알칼리성 용액을 사용하며 자외선에 대한 높은 감도를 제공하도록 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 미세 박막 (micro-thin film) 의 얇은 층을 식각시켜 정확한 석판 제어를 허용하는 포토 마스크 (photomask) 를 만듭니다. 먼저, 원하는 패턴은 융합 실리카 기판과 정렬됩니다. 그 후, 평면화 층 (planarizing layer) 을 가진 두 번째 융합 실리카 층 (silica layer) 이 기판 위에 추가되어 더 높은 해상도의 이미징을 준비합니다. 그런 다음 결합 된 레이어가 UV 조명에 노출되어 photomask를 만듭니다. 그러면 광원이 빠르게 필터링되고 노출되지 않은 영역이 에치 (ech) 되어 원하는 패턴이 생성됩니다. 다음으로, 포토 esist 필름이 기판에 적용됩니다. "필름 '은 균일 한 층 으로 형성 될 수 도 있고 화학적 으로 내성 이 있는 것 과 같은 원하는 특성 을 위해 조성 될 수 도 있다. 그런 다음, 포토 esist 필름은 UV 치료 가능한 수지에 노출되고, 나머지 노출되지 않은 영역은 식각된다. 그런 다음, 나머지 UV 치료 가능한 수지를 제거하여 다양한 석판 응용에 사용될 수있는 최종 포토 마스크 (photomask) 를 만듭니다. 이 과정은 다른 포토 마스크 (photomask) 와 비교하여 매우 미세한 해상도로 포토 마스크 (photomask) 를 생성하여 반도체 산업에서 사용하기에 적합합니다. 단위가 달성 할 수있는 해상도 (Resolution) 는 엄청나게 정확한 복잡한 모양을 만들 수 있습니다. 또한, 알칼리 솔루션 기능을 통해 다른 포토 마스크보다 처리 속도가 빠르고 활성화 에너지가 낮습니다. 이 기계는 또한 방사선 방지 (anti-radiation) 와 오염 방지 (anti-contamination) 인 포토 마스크 생성 능력을 통해 좋은 환경 보호를 제공합니다. DNS 60 photoresist 툴은 신뢰할 수 있고, 견고하며, 신뢰할 수 있는 자산으로, 다양한 리소그래픽 애플리케이션에 활용할 수 있습니다. 다용도, 정밀도, 알칼리성 (Alkaline) 솔루션 기능을 통해 많은 기업에서 다양한 용도로 포토마스크 (Photomask) 를 신속하게 생산할 수 있는 비용 효율적이고 효율적인 방법을 모색할 수 있습니다.