판매용 중고 DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-1803BEW-SP #9132893

DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-1803BEW-SP는 회로 기판 개발 및 사용자 정의와 같은 응용 프로그램을 위해 설계된 강력한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 고급 사진 리소그래피 (photo-lithography) 기술을 사용하여 금속 또는 기타 기판에서 고정밀 패턴을 에칭 할 수 있습니다. photoresist 단위는 특정 재료에 상세한 패턴을 만드는 데 사용됩니다. 이 패턴은 회로 기판에 선 너비 (line width) 를 생성하거나 다양한 설계를 위해 에칭 (etched) 부품을 만드는 등 많은 응용 프로그램에서 사용됩니다. SCH-1803BEW-SP의 경우, 고급 사진 리소그래피 기술을 사용하여 금속, 폴리머, 유리 등 다양한 재료에서 가장 정확하고 상세한 패턴을 만듭니다. DAN-TAKUMA TECHNOLOGIES SCH-1803BEW-SP 머신에는 광원, 렌즈, 마스크 및 포토 esist 재료가 포함됩니다. 광원은 마스크 (Mask) 의 디자인에 따라 포토레시스트 (photoresist) 재료에 패턴을 주조하는 데 사용된다. 세부적 인 "패턴 '은 강력 한 광원 에 의하여" 포토레지스트' 물질 에 식각 되어 기판 으로 직접 전달 된다. 이렇게 하면 기판에 패턴을 가져올 때 정밀하고 정확할 수 있습니다. 도구가 작동하려면, 사용자는 특정 응용 프로그램에 따라 적절한 설정 (settings) 을 구성해야 합니다. 첫째 로, "에칭 '과정 을 위해 재료 와 기판 을 준비 해야 한다. 그러면 사용자는 광원의 전원 설정 (Power settings), 레이저 빔의 크기 (size of the laser beam) 및 노출 시간 (exposure time) 을 구성합니다. 또한 "마스크 '를 조정 하여" 패턴' 이 기판 에 정확 하게 옮겨질 필요 가 있다. 에셋이 설정되면, 사용자는 에칭 프로세스를 시작할 수 있습니다. "레이저 '광선 은" 패턴' 을 "포토레지스트 '소재 에 에칭 하게 될 것 이며, 그 포토레지스트 소재 는" 패턴' 을 기판 으로 직접 전달 할 것 이다. 에칭이 완료되면 photoresist 재료를 제거하여 정밀도 (precision) 패턴을 표시할 수 있습니다. SCH-1803BEW-SP (SCH-1803BEW-SP) 는 매우 다양한 재료에서 상세한 패턴을 만들 수 있는 안정적이고 강력한 포토 esist 모델입니다. 광원의 전원 설정 (power settings) 을 구성하고 노출 시간 (exposure time) 을 조정함으로써, 이 장비는 패턴을 기판으로 정확하고 안정적으로 전송할 수 있으므로 회로 기판 또는 식각 부품 (etched part) 을 만드는 데 적합합니다.