판매용 중고 CSE S-470 #9409615

CSE S-470은 UV 노출 응용 프로그램을 위해 특별히 설계된 긍정적 인 포토 esist 시스템입니다. 포토 레스트 (photoresist) 의 활성 성분을 형성하는 독점적 인 수지 세트와 포토 이니시에이터 (photo-initiator) 를 갖는 폴리머 성분으로 구성된다. 자외선 (UV light) 의 존재하에, 이 성분은 얇은 중합 필름의 형성을 초래하는 광화학 반응을 겪는다. 포토레스 (photoresist) 시스템에 의해 생성 된 얇은 폴리머 필름 (thin polymeric film) 은 이미지 형성에 적합한 정의되지 않은 균일 한 표면을 제공하며, 기본 기질을 오염으로부터 보호하는 장벽을 제공합니다. 결과적으로, 다양한 유형의 응용 프로그램에 대해 매우 정밀하고, 고해상도 이미지를 만들 수 있습니다. 광저항제는 자외선 (UV light) 에 매우 민감하여 노출 시간이 빨라지고 생성 된 이미지의 해상도가 높아집니다. 또한 S-470은 마모, 극한 온도 및 거친 화학 물질에 매우 강력하고 저항력이 있습니다. 이는 전자 제품 생산, 광학 및 의료 기기 생산, 회로 기판 리소그래피 (lithography) 등 다양한 산업 분야에 적합한 선택입니다. 또한 CSE S-470은 올려진 글자나 복잡한 패턴과 같은 복잡한 이미지를 정확하게 재생산하고 전송할 수 있습니다. 이것 은 그 기판 을 쉽게 조작 하여 "포토레지스트 '필름 이나 노출 된 기본 기판 에 큰 변화 없이 형성 할 수 있다는 사실 때문 이다. 그 에 더하여, "포토레지스트 '는 더 이상 필요 가 없게 되면 기질 에서 쉽고 효과적 으로 제거 될 수 있다. 전반적으로 S-470은 많은 UV 노출 응용 프로그램에 적합한 선택입니다. 사용이 쉽고, 견고하며, 다양한 환경 조건에 강합니다. 또한, 뛰어난 감도와 해상도를 통해 복잡한 이미지와 석판화 용도에 이상적입니다.