판매용 중고 CONVAC LBA 7 #9177469

CONVAC LBA 7은 고급 반도체 장치 제작 프로세스를 위해 특별히 설계된 Photoresist 장비입니다. 집적 회로 제조 공정에 사용되는 포토레시스트 층 (photoresist layer) 의 저항 코팅, 회전, 굽기, 개발 등 여러 가지 정교한 기능이 가능합니다. 이 시스템에는 또한 사진 해설에 사용되는 고급 3 축 스캔 단계가 있습니다. LBA 7에서 제공하는 저항 코팅은 매우 균일 한 필름 두께를 제공하는 독특한 고체 분수 조정 기능을 제공합니다. 회전 프로세스는 100 ~ 3500 RPM의 속도를 낼 수 있으며, 선택 가능한 가속 및 감속 속도, 공기 역학적 스핀 속도 안정화, 정밀한 제어를 위한 평균 원심력 센서를 제공합니다. 사용자 친화적 인 베이킹 유닛의 온도 범위는 50 ~ 400 ° C이며, 기판의 온도 균일성은 ± 0.5 ° C입니다. 개발을 위해, 이 장치는 다양한 포토 esist를 처리 할 때 최적의 결과를 얻기 위해 조정 가능한 개발자 온도 범위 (10 ~ 40 ° C) 를 갖습니다. 스캐닝 단계의 경우, CONVAC LBA 7은 0.5 äm의 뛰어난 반복 가능성과 매우 정확한 가속 및 속도 제어를 제공합니다. 이를 통해 기판에 정확하고 정확하게 배치 된 패턴을 허용합니다. 매우 정확한 XYZ 수동 정렬 기계도 포함되어 있으며, 이는 ± 0.1 äm의 정확한 위치 정확도를 제공합니다. 이 도구에는 자동 사진 촬영 장비와 통합 할 수있는 프로그래밍 가능한 노출 기능도 있습니다. LBA 7 은 집적 회로 제조 공정에 필요한 광범위한 포토레시스트 (photoresist) 계층을 제작하기 위해 매우 효율적이고, 사용자 친화적이며, 비용 효율적인 자산으로 설계되었습니다. 최강의 저항 코팅, 회전, 베이킹 및 개발 성능이 특징이며, 최적의 출력을 위해 정확하게 자동화 할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 디자인과 고급 스캐닝 (scanning) 단계는 정확한 사진 해설에 이상적인 선택입니다.