판매용 중고 CONVAC CBA-M-2000 #293747948

CONVAC CBA-M-2000은 photoresist 물질의 박막을 기판 표면에 배치하도록 설계된 photoresist 장비입니다. 이 시스템은 복잡한 회로 제작에 널리 사용되며 반자동 (semi-automatic) 및 완전 자동화 (fully automated) 생산 프로세스에 모두 적합합니다. 이 장치는 2 개의 독립적 인 증착 유닛을 제어 할 수 있으며, 각 유닛은 빔 디플렉션 머신 (beam deflection machine) 을 특징으로하여 정확한 저항 패턴을 만들 수 있습니다. CBA-M-2000은 전자, 갈륨 이온 또는 제논 이온 (xenon ion) 과 같은 에너지 입자를 사용하여 최대 0.1 마이크로 미터의 해상도를 달성 할 수 있으므로 고정밀 회로 생산에 이상적인 도구입니다. 저항 증착의 최고 정확성을 보장하기 위해 CONVAC CBA-M-2000은 광범위한 작동 매개변수를 제공합니다. 여기에는 보호 또는 에칭 증착 모드 선택, 광범위한 빔 전류 (beam current) 및 빔 에너지 레벨 (beam energy level) 및 조절 가능한 전자 빔 필터링 및 스캐닝 매개변수 중에서 선택할 수있는 기능이 포함됩니다. 이 도구는 또한 여러 패턴 생성 모드를 제공하며, 반자동 또는 수동으로 좌표를 프로그래밍하는 기능을 제공합니다. 사용자 편의를 위해 CBA-M-2000은 가스 연동 자산, 안전 연동 세트, 긴급 버튼, 근접 경고 모델, 데이터 로깅 장비 등 다양한 안전 기능을 갖추고 있습니다. 또한 고급 소프트웨어 명령 (Advanced Software Instruction) 을 실행할 수 있으므로 기존 운영 시스템과 쉽게 통합할 수 있습니다. 사용자 친화적 인 인터페이스와 대화형 그래픽을 갖춘 CONVAC CBA-M-2000 (CVAC CBA-M-2000) 은 안정적이고 효율적인 포토리스 시스템을 활용하려는 사람들에게 탁월한 선택입니다.