판매용 중고 CONAIR FRANKLIN D-300A #293741223

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Dryer Compu-Dry dehumid (H5).
CONAIR FRANKLIN D-300A는 사진술 과정에서 비교할 수없는 정확성과 효율성을 제공하는 최첨단 포토리스트 장비입니다. 이 첨단 장비 는 "반도체 '제조 및" 마이크로일렉트로닉스' 공업 의 까다로운 필요 를 충족 시키도록 설계 되었는데, 이 공업 은 "반도체 '" 웨이퍼' 에 있는 복잡 한 회로 "패턴 '을 제조 하는 데 정밀 한" 패턴' 과 방제 가 중요 하다. D-300A (D-300A) 의 주요 특징 중 하나는 고급 포토 esist 분배 시스템이며, 기판 표면에서 포토 esist 물질의 제어 및 균일 코팅을 가능하게한다. 이 장치는 높은 정밀도 노즐 (nozzle) 을 가진 정교한 디스펜스 헤드 (dispense head) 를 사용하여 웨이퍼 표면에 걸쳐 일관된 두께를 가진 정밀한 양의 포토 esist를 제공합니다. 이것은 포토리스 스트 코팅에서 균일성을 보장하며, 이는 정확한 패턴화 결과를 달성하는 데 필수적입니다. CONAIR FRANKLIN D-300A에는 코팅 된 기판과 함께 포토 마스크를 정확하게 정렬 할 수있는 고해상도 정렬 기계가 장착되어 있습니다. 이 정렬 정확도는 원하는 회로 패턴이 높은 충실도 (fidelity) 로 기판에 전달되도록 하는 데 중요합니다. 이 도구는 정교한 소프트웨어 알고리즘과 결합된 고급 광 정렬 (optical alignment) 기술을 사용하여 서브 미크론 정렬 정확도를 달성하여 복잡하고 밀도가 높은 회로 패턴을 제작할 수 있습니다. D-300A 는 정확한 정렬 기능 외에도 최첨단 노출 자산 (State-of-Art Exposure Asset) 을 갖추고 있어 사진 분석 프로세스 동안 광도 및 노출 시간을 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 모델에는 수은 아크 램프 (Mercury Arc Lamps) 또는 UV LED 어레이 (UV LED Array) 와 같은 고급 광원이 장착되어 있으며, 포토 esist 노출에 필요한 특정 파장에서 고강도 광원을 제공합니다. 노출 장비는 또한 정확한 셔터 메커니즘 (shutter mechanism) 과 동적 제어 메커니즘 (dynamic control mechanism) 을 통합하여 노출 매개변수를 실시간으로 조정하여 전체 기판 표면에 정확하고 일관되게 노출시킵니다. 또한 CONAIR FRANKLIN D-300A는 사용 편의성과 운영 효율성을 위해 설계되었습니다. 이 시스템은 터치스크린 컨트롤이 포함된 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface with touchscreen control) 를 통해 연산자가 photolithography 프로세스를 쉽게 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 또한 프로세스 최적화, 데이터 로깅 (Data Logging), 원격 진단 (Remote Diagnostics) 을 위한 포괄적인 소프트웨어 기능이 포함되어 있어 작업 흐름을 간소화하고 생산성을 극대화할 수 있습니다. 전반적으로 D-300A는 반도체 제조 및 마이크로 일렉트로닉스 어플리케이션에 탁월한 정밀도, 효율성, 신뢰성을 제공함으로써 포토레시스트 (photoresist) 시스템의 새로운 표준을 설정합니다. 고급 디스펜스 (Dispense), 정렬 (Alignment), 노출 (Exposure) 기능을 갖춘 이 시스템은 엄격한 프로세스 제어 및 일관된 결과가 필수적인 대용량 운영 환경에 적합합니다. 제조업체는 CONAIR FRANKLIN D-300A에 투자함으로써 우수한 패턴화 결과 (Patterning Result), 처리량 증가, 반도체 산업의 기술 혁신의 선두에 설 수 있습니다.
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