판매용 중고 CIBA GEIGY CLD 3 #94697

CIBA GEIGY CLD 3은 CIBA GEIGY Corporation에서 개발 한 포토 esist 장비입니다. '마이너스 (negative acting) 포토리스 스틱 (photoresist)' 은 노출되지 않은 영역이 제거되고 노출되지 않은 영역이 남아 있다는 것을 의미하며, 선택적으로 노출된 다음 원치 않는 부분을 에칭함으로써 포토레시스트에 패턴을 생성 할 수 있습니다. 이 시스템은 집적 회로 설계 (integrated circuit design) 와 같이 미세, 복잡하고 매우 정확한 패턴을 생산하기 위해 특별히 설계되었습니다. 그것 은 감광 물질 의 얇은 "필름 '을 기질 의 표면 에 코팅 하여 작용 한다. 그런 다음, 이 "필름 '은 노출 된 물질 을 분해 하고, 노출 되지 않은 물질 을 영향 받지 않게 하는 빛 에 선택적 으로 노출 된다. 이어서, 노출 된 물질은 화학 용매, 에칭 공정 또는 기타 방법을 사용하여 제거된다. photoresist의 나머지 부분은 추가 에칭 또는 처리를 위해 마스크 역할을합니다. CLD 3의 경우, 포토 esist는 최소한의 포스트 노출 시프트 (Post Exposure Shift) 와 강력한 에치 저항으로 안정적으로 만드는 새로운 제형으로 구성됩니다. 올바르게 노출되고 개발되면 CIBA GEIGY CLD 3 포토 esist 장치는 뛰어난 해상도와 간단한 처리를 제공합니다. 달성 가능한 최소 기능 크기는 사용 중인 장비에 따라 달라지지만, 크기는 0.25 미크론 (미크론) 까지 작을 수 있습니다. 또한 대조 인쇄가 높으며, 즉 포토 esist 레이어를 더 강한 에칭 솔루션 (etching solution) 에 적용하여 더 신뢰할 수있는 에치 결과를 얻을 수 있습니다. 이 기계 는 또한 유리, 금속, "플라스틱 ', 반도체 재료 등 여러 가지 기판 과 함께 사용 할 수 있기 때문 에, 다양 한 유연성 을 제공 한다. 요컨대, CLD 3 포토레시스트 (photoresist) 도구는 집적 회로 및 기타 특정 장치에 대한 미세, 복잡성, 매우 정확한 패턴을 만드는 업계 표준입니다. 그것 은 안정성 이 있고, 안정 되어 있으며, 크기 가 0.25 "미크론 '정도 나 작으며, 다양 한 기판 에 사용 될 수 있으며, 뛰어난 명암비 와" 에치' 저항력 을 제공 한다.