판매용 중고 CEM 1800ES #9309472

CEM 1800ES는 정밀 엔지니어링에 사용하도록 설계된 고급형 포토 esist 장비입니다. 정밀하고 일관된 석판화 결과를 위해 고급 광학과 컴퓨터 제어 (Computerized Control) 를 결합한 다재다능한 턴키 시스템입니다. 1800ES는 매우 정밀한 정렬, 등록, 해상도 및 오버레이 기능을 갖춘 고해상도 포토마스크를 생산하도록 설계되었습니다. 이러한 마스크를 사용하면 집적 회로 및 전자 부품의 고해상도 이미징이 가능합니다. 이 장치는 고급 옵토 (opto) 기계적 컴포넌트와 소프트웨어를 특징으로하여 패턴 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 기계에는 트릴레이어당 1800 개 이상의 회전으로 고해상도 이미징을위한 선형 스테퍼가 있습니다. 스캔 필드에 이미징할 패턴의 최대 필드가 결정됩니다. 스캔 필드는 여러 개의 하위 필드로 구성되며, 이 필드는 개별적으로 프로그래밍되고 다른 패턴 (patterning) 요구 사항에 맞게 최적화될 수 있습니다. CEM 1800ES는 가용성, 음성 톤, 질화 실리콘의 알루미늄 및 e-beam 저항과 같은 다양한 포토 esist 재료와 호환됩니다. 또한 에어로졸 제어를위한 진공 공구가 있습니다. 1800ES의 독특한 기능은 빠른 노출 주기입니다. 최대 2 미크론의 정렬 정확도를 유지하면서 단일 노출 주기에서 최대 24 개의 패턴 레이어를 수행 할 수 있습니다. 에셋의 초점 깊이는 조절이 가능하며, 이는 최고 품질의 이미지를 보장하는 데 도움이 됩니다. 또한 포커스 포지션을 조정할 수 있으므로, 프로세서와 웨이퍼 레벨 패키지를 이미징하는 데 이상적입니다. 이 모델에는 Linux 플랫폼을 기반으로 하는 강력한 컨트롤러 (controller) 가 있으며, 다양한 패턴화 기능을 제공합니다. 노출 시간, 노출 용량, 스테퍼 속도, 정렬 정확도 및 초점 깊이와 같은 매개 변수는 모두 프로그래밍 가능합니다. CEM 1800ES 포토 esist 장비는 정밀 엔지니어링을위한 강력한 도구입니다. 집적 회로 (integrated circuit) 와 전자 부품 (electronic component) 의 정확한 패턴화에 이상적인 다양한 기능과 기능을 제공합니다. 빠른 패턴화 주기 (patterning cycle), 조정 가능한 초점 깊이 (depth of focus) 및 고급 옵토 기계식 컴포넌트 (opto-mechanical component) 를 통해 다양한 응용 프로그램에 매우 다양한 시스템이 될 수 있습니다.