판매용 중고 C&D SEMI P-8000 #9153359

CD SEMI C&D SEMI P-8000 Photoresist Equipment는 반도체 기판에서 고급 구조를 제작하기위한 고성능 photolithography 시스템입니다. 이 장치는 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 에 매우 정확하고 얇은 photoresist 레이어를 증착하고 제거 할 수 있으며, 다양한 기판과의 뛰어난 에치 선택성 및 호환성을 제공합니다. 최적의 정확성과 처리량을 위해 설계되었으며, 시간당 최대 53 개의 웨이퍼를 처리할 수 있으며, 패턴 정확도는 +/- 1.5m입니다. 기계는 진공 챔버, 기존 스테퍼 광학 도구, 쿼츠 보울, 기판 홀더 및 기판 스테이지로 구성됩니다. 광학 광학 자산에는 빔 스플리터 (beam splitter) 와 컨덴서 렌즈 (condenser lens) 가 포함되어 있습니다. 석영 "보울 '은 기판 에 증착 되기 전 에" 포토레지스트' 를 집집 에 들고 붙잡는 데 사용 된다. 기판 "홀더 '에는" 히터' 가 장착 되어 있는데, 이것 은 광저온 증착 중 에 기질 의 온도 를 조절 하는 데 사용 된다. 고해상도 스테퍼 모터 (stepper motor) 에 의해 구동되는 기판 단계는 포토 리토 그래피 프로세스 동안 기질의 정확한 배치를 허용합니다. C&D SEMI P8000에는 photoresist를 노출시키는 데 사용되는 빛의 파장을 정확하게 제어하는 데 사용되는 SMADL (Single-Mode Annular Diode Laser) 이 장착되어 있습니다. SMADL 레이저는 photolithographic 패턴화의 최고 정확도와 품질을 보장하도록 특별히 설계되었습니다. 또한, P 8000 의 SSD (Solid State Design) 는 높은 신뢰성을 제공하므로 어려운 산업 환경의 엄격함을 견딜 수 있습니다. 이 모델에는 성능을 향상시키고, 운영 비용을 절감할 수 있는 다양한 기능이 탑재되어 있습니다 (영문). 예를 들어, 장비에는 자동 필름 절삭 도구 (Automatic Film Cutting Tool) 가 장착되어 있어 필름 길이와 위치를 정확하게 선택하여 기판 활용도를 최적화합니다. 또한, 시스템은 고급 포토 저항 처리 온도 제어 장치 (photo-resist processing temperature control unit) 를 사용하여 일관된 패턴화 성능을 보장합니다. 마지막으로, P8000은 갈륨 비소, 실리콘 카바이드, 다이아몬드 등 다양한 기질과 호환됩니다. 요약하면, CD SEMI C&D SEMI 8000 Photoresist Machine은 고급 미크론 스케일 구조를 제작하기위한 강력하고 효율적인 사진 분석 도구입니다. 탁월한 정확성과 처리량, 다양한 기판에 대한 호환성, 고급 (advanced) 기능을 통해 운영 비용을 절감하고 성능을 향상시킬 수 있습니다.