판매용 중고 BUHLER / LEYBOLD OPTICS UCS 40 #9363015

BUHLER/LEYBOLD OPTICS UCS 40은 반도체 산업에서 사용하기위한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 photolithography 기술을 사용하여 고해상도 SEMI Standard BSIM3v3 모델을 사용하여 기판에 패턴을 생성합니다. 이 장치에는 고급 노출 장치, 초정밀 전기 기계 단계 및 Xenon Lamp Lightsources가 장착되어 있습니다. 작업 (operation) 의 노출 단계에서, 상부 기판은 마스크에 복제 된 패턴에 노출된다. "마스크 '는" 레이저' 에 의해 조명 되는데, 이것 은 적절 한 강도 로 변조 되어 기판 에 집중 된다. 노출 장치 (Exposure Unit) 는 레이저의 최대 강도에 도달하고, 노출이 기판 전체에서 균일하도록 보장합니다. 노출 후, 이미지는 마스크에서 실리카 기반 저항 (silica-based resist) 으로 옮겨지며, 개발 단계에 들어가기 전에 기판에 분배됩니다. 개발 단계 (Development Stage) 는 마스크 패턴에 따라 노출된 저항의 특정 영역을 늘리거나 줄이도록 설계되었습니다. 이것 은 "스와버 '" 웨이퍼' 를 사용 하여 노출 되거나 개발 되어야 할 지역 에서 균질 한 저항 의 균형 을 유지 하는 데 도움 이 된다. 전기역학적 단계 (electro-mechanical stage) 의 사용에 의해 개발의 정밀도가 더욱 높아져 미크론 (micron) 수준에서 정확한 작동이 가능해진다. photoresist 과정의 마지막 단계는 photoresist 제거 단계입니다. 이 단계는 산성 용액을 사용하여 노출 또는 개발 된 저항을 용해시킵니다. 최적의 반응 속도를 유지하기 위해 주변 온도 (Ambient temperent) 를 신중하게 모니터링하여 최고 수준의 결과를 얻을 수 있습니다. BUHLER UCS 40은 신뢰할 수있는 사진 해설기로, 업계 전문가들이 가장 정확하고 고품질 결과를 제공하기 위해 테스트했습니다. 이 도구는 다양한 공급 업체에서 사용할 수 있으며, 디자인과 기능을 통해 모든 반도체 생산 공정에 쉽게 적응할 수 있습니다 (영문).