판매용 중고 BUHLER / LEYBOLD OPTICS Syrus Pro 1350 LION #293771029
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ID: 293771029
Optical coating machine
Stainless steel chamber
Optical monitoring system
(2) Polarization filters
Water cooled
Water distribution system (Warm / Cold)
Calorimetric water flow sensor
Electrical cabinet
Graphical User Interface (GUI)
TFT Touch screen, 19"
Uninterruptible Power Supply (UPS)
Remote service system
Material: Stainless steel
Vacuum pump
High vacuum flange size: DN500
Pumping capacity: 300 m³/h
Final pressure: 5x10-3 mbar
Cryo pump type: Coolvac 10000 iCL
Compressor unit type: Coolpak CP 6000
Gas flow range: 1.6-300 SCCM
LION 300 RF-Plasma source
Line voltage: 3 AC 400 V / 230 V
Frequency: 50 Hz
Substrate drive:
Adjustable speed range: 3-33 1/min
Rated power: 25 kW
Substrate load: 250 kg
Substrate heater:
Heater power: 52 kW
Temperature: 300°C
Chamber:
Inner diameter: 350 mm
Inner height: 1550 mm
Features:
Manual mode (Preparation service and maintenance) / Automatic mode (Machine / Process control)
Electron beam evaporator:
Deflection: 270°
Power: 6 kW
Crucible diameter: 320 mm
Floor space: 35 m²
Power supply: 10 kW, 13156 MHz, 1000 mA, AC 0-6 V.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS Syrus Pro 1350 LION은 고급 반도체 제조 응용 프로그램을 위해 설계된 고성능 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 정확하고 안정적인 포토레시스트 (photoresist) 처리 기능을 제공하여 집적 회로, MEMS 장치 및 기타 마이크로 일렉트로닉스 부품의 제작에 이상적인 솔루션입니다. BUHLER Syrus Pro 1350 LION 장치의 핵심에는 고급 석판 기술 (Advanced Lithography Technology) 이 있으며, 이는 반도체 기판에서 포토 esist 레이어의 정확한 패턴을 가능하게합니다. 이 기계는 서브 미크론 정렬 정확도를 가진 고해상도 마스크 정렬기 (high-resolution mask aligner) 를 갖추고 있어 매우 정밀하게 복잡하고 복잡한 패턴을 만들 수 있습니다. 이 기능은 현대 반도체 제조 공정에 필요한 엄격한 차원 공차를 달성하는 데 필수적입니다. LEYBOLD OPTICS Syrus Pro 1350 LION 도구의 주요 기능 중 하나는 양성 (positive) 및 음성 저항을 포함하여 광범위한 광저항 재료를 수용 할 수있는 기능입니다. 이러한 유연성을 통해 반도체 제조업체는 특정 프로세스 요구사항에 가장 적합한 포토레시스트 (photoresist) 를 선택하여 장치 성능 및 수율을 최적화할 수 있습니다. 자산의 다양한 포토 esist 제형과의 호환성은 또한 다양한 제조 시나리오에 대한 다용성과 적용 성을 향상시킵니다. Syrus Pro 1350 LION 모델에는 고강도 광원과 정확한 노출 제어 메커니즘을 갖춘 고급 UV 노출 장비가 장착되어 있습니다. 이를 통해 기판 전체에 포토레스 레이어를 균일하고 일관되게 노출시켜 패턴 품질 (pattern quality) 과 치수 (dimensional) 정확도의 변화를 최소화합니다. 이 시스템의 노출 파라미터 (exposure parameters) 는 다른 포토레지스트 재료의 특정 처리 요구 사항을 충족시키기 위해 미세하게 조정될 수 있으며, 높은 반복성으로 최적의 패턴화 결과를 달성합니다. 리토 그래피 기능 외에도 BUHLER/LEYBOLD OPTICS Syrus Pro 1350 LION 장치는 효율적인 포토 esist 처리를 지원하기 위해 다양한 보조 기능을 제공합니다. 여기에는 자동 기판 로드 및 언로드를 위한 통합 웨이퍼 처리 (wafer handling) 로봇, 프로세스 매개변수 프로그래밍 및 모니터링을위한 포괄적 인 사용자 인터페이스 (user interface) 가 포함됩니다. 이 기계의 사용자 친화적 인 설계와 직관적인 작동을 통해 반도체 제조업체는 최소한의 훈련과 감독을 통해 포토리스 처리 시퀀스 (photoresist processing sequence) 를 쉽게 설정하고 실행할 수 있습니다. BUHLER Syrus Pro 1350 LION 도구는 처리량이 많은 생산 환경을 위해 설계되었으며, 빠른 주기와 효율적인 워크플로우 관리 기능을 제공합니다. 자산의 견고한 구성과 안정적인 성능은 지속적인 운영, 장기적인 안정성, 다운타임 최소화, 생산성 극대화를 보장합니다. 또한 모듈식 (Modular) 설계를 통해 발전하는 프로세스 요구 사항과 반도체 제조의 기술 향상을 수용할 수 있는 간편한 업그레이드 및 사용자 지정 (Customization) 옵션이 제공됩니다. 전반적으로 LEYBOLD OPTICS Syrus Pro 1350 LION 포토 esist 모델은 포토 esist 프로세싱에서 탁월한 정밀도, 신뢰성 및 다재다능성을 추구하는 반도체 제조업체를위한 최첨단 솔루션을 나타냅니다. 고급 리소그래피 기술, 다양한 포토레지스트 (photoresist) 소재와의 호환성, 종합적인 자동화 기능을 갖춘 Syrus Pro 1350 LION 장비는 뛰어난 성능의 고품질 반도체 소자를 위한 포괄적인 솔루션을 제공합니다.
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