판매용 중고 BREWER SCIENCE CEE 3000 #9253480

BREWER SCIENCE CEE 3000은 하이엔드, 반도체 응용 프로그램의 개발을 가능하게하기 위해 설계된 차세대 초고해상도 포토레스 장비입니다. 이 시스템은 저항 분배 스탠드, 화학 공급 및 배송 모듈, 교정 스테이션, 강력한 광원으로 구성됩니다. 저항 분배 스탠드는 특허를받은 SiroccoHapTec 저항 분배 기술을 사용하여 작은 기능이있는 반도체 웨이퍼에 안전하고 정확하게 포토 esist를 배치합니다. 이것 은 "웨이퍼 '가 강력 한 광원 을 이용 하여 조정 하고 영상 할 수 있도록 정확 하게 제시 된다. 화학 물질 공급 모듈 (Chemical Supply and Delivery Module) 은 사진 저항과 개발자의 일관되고 정확한 공급 및 전달을 제공하도록 설계되었습니다. 보정 스테이션에는 고유 한 EasyCal 소프트웨어가 포함되어 있으므로 정확한 저항 교정 (resist calibration) 을 통해 뛰어난 해상도와 패턴 전송이 가능합니다. LCD 모니터는 내구성 (Resist) 패턴의 노출 시간과 강도를 정확하게 제어하는 데 사용됩니다. 또한 웨이퍼 노출을 제어하는 간단한 그래픽 사용자 인터페이스를 제공합니다. 강력한 광원은 사진 촬영에 사용되며, 강렬하고 균일 한 빛을 생성 할 수 있습니다. 이 광원 (Light Source) 은 고급 기능 크기에 대한 대용량 처리량을 생산할 수 있으며, 다양한 프로세스 요구사항을 충족하기 위한 엄청난 노출 시간 (Exposure Time) 유연성을 제공합니다. CEE 3000 은 리소그래피 처리를 단순화하고 고급 반도체 생산이 가능한, 사용이 간편한 고급 포토레시스트 (photoresist) 장치입니다. 이 기계는 마이크로 일렉트로닉스 재료, 박막 재료 및 반도체를 사용하는 사람들에게 이상적입니다. 이 도구의 정확한 저항 이미징 기능, 정확한 교정, 강력한 광원 (light source) 을 통해 복잡하고 복잡한 패턴을 빠르고 쉽게 만들 수 있습니다.