판매용 중고 ASML 1150i #9197838

ASML 1150i (ASML 1150i) 는 고급 이미징 기술을 사용하여 웨이퍼 처리를 위해 옵토 전자 부품 및 관련 포토 esist 구성 요소를 빠르고 정확하게 식별하는 포토 esist 장비입니다. 파장 최적화 조명 설정, 다양한 이미징 센서, 포토레지스트 (photoresist) 측정이 가능한 강력한 처리 플랫폼을 갖춘 고급 레이저 시스템을 갖추고 있습니다. 이 시스템은 p-type 및 n-type photoresist에 적합하며, 재료 및 해당 전기 신호를 정확하게 식별 할 수 있습니다. 이미지 최적화 알고리즘과 함께 자동 노출 제어 (Automatic Exposure Control) 및 정렬 감지 (Alignment Detection) 기능을 통해 최상의 품질의 결과를 얻을 수 있습니다. 통합 이미지 처리 기능은 자동 보정 (auto-correction) 및 색상 인식 (color recognition) 기능을 제공하여 최고의 포토 esist 식별 성능을 제공합니다. 1150i는 최적의 신호 감지 및 캡처를위한 고속 빔 스티어링 메커니즘을 포함합니다. 또한 백그라운드 노이즈 (background noise) 가 있을 때 감지할 수 있도록 고급 신호 적응 (advanced signal adaptation) 방법이 장착되어 있습니다. 또한, 종합 전원 공급 장치 모니터링 장치는 2 개의 독립적 인 전원 공급 장치 채널을 제공하여 포토레스 (photoresist) 시스템에서 안정적이고 반복 가능한 작동을 보장합니다. 다중 채널 장치로서 ASML 1150i는 동시에 여러 photoresist 채널을 측정 할 수 있으며, 각 채널은 초당 6-10 개의 사진 프레임을 제공합니다. 이러한 고해상도 이미징 기능을 통해 photoresist 검사 및 분석을 자세히 수행할 수 있습니다. 이미징 기능 외에도, 1150i에는 다양한 샘플 컴포지션의 설정을 쉽게 조정하기 위한 자동 교정 모드가 있습니다. 또한 사용자는 photoresist 프로덕션 사이트와 쉽게 통합 할 수 있도록 시스템을 구성할 수 있습니다. 직관적인 사용자 인터페이스, 종합적인 분석 도구, 빠른 작동으로 인해 ASML 1150i는 photoresist 구성 요소 및 특성을 식별하기위한 신뢰할 수있는 솔루션입니다. 최적의 구성 요소와 고급 이미지 처리 기술 (Advanced Image Processing Technology) 을 갖춘 이 툴은 웨이퍼 프로세싱을 위한 포토레시스트를 정확하고 안정적으로 측정할 수 있는 경제적인 솔루션을 제공합니다.