판매용 중고 ANDA iCoat #9399294

ANDA iCoat는 microfabrication 환경에서 정밀 사진 촬영 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 다양한 포토마스크 (photomask) 및 웨이퍼 (wafer) 크기를 처리하여 최대의 처리 유연성을 제공하도록 특별히 설계되었습니다. ICoat 장치는 특수 저항 재료 및 다양한 프로세스를 사용하여 높은 수준의 정확도, 해상도, 반복성을 가진 마스크 패턴을 생성합니다. 이 기계는 패턴의 크기나 복잡성에 관계없이 일관성 있고 고품질의 결과를 촉진하도록 설계된 DVP (Dynamic Vacuum Process) Resist and Resist Hardening Technology (RHT) 와 같은 다양한 기술을 활용하고 통합합니다. ANDA iCoat 도구를 사용하면 특수 레이저 광원을 사용하여 웨이퍼 기판에 photomask 패턴이 생성됩니다. "레이저 '빛 은 저항성 물질 을 줄여" 웨이퍼' 에 원하는 "패턴 '을 형성 한다. 그런 다음 photomask는 photolithography에 의해 개발되고 원하는 패턴이 형성됩니다. 일단 "웨이퍼 '에" 패턴' 이 형성 되면 "방사선 '과" 에칭' 과 같은 추가 처리 를 하여 원하는 결과 를 만들어 낸다. ICoat 자산은 모든 크기의 패턴 화 (patterned wafer) 를 생성 할 때 효과적이고 일관성 있고 반복 가능하도록 설계되었습니다. 프로세스는 모든 웨이퍼 크기에 대해 반복 가능한 패턴 출력을 허용하는 자동 매개변수 (automated parameters) 에 의해 제어됩니다. 또한, 이 모델에는 다양한 도구와 보조 도구 (AID) 가 포함되어 있어 운영자가 원하는 석판화 성능을 그대로 유지하면서 원하는 수준의 정확성과 반복성을 달성할 수 있습니다. 장비의 효과를 극대화하기 위해서는 운영자 (operator) 가 시스템 자체의 작동에 대해 고도로 훈련되어야 한다. & # 160; & # 160; 안다 아이코트 (ANDA iCoat) 는 특히 운영자에게 모든 유형의 응용 프로그램에 효과적으로 사용할 수있는 지식과 기술을 갖춘 광범위한 교육 과정을 제공합니다. ICoat 머신은 사용 편의성, 신속한 거부율, 높은 수준의 정확성, 반복성 등 다양한 이점을 제공합니다. 이 도구는 원하는 리소그래피 (lithography) 결과를 얻을 수 있는 빠르고 효율적인 방법을 제공하여 웨이퍼 (wafer) 기판의 무결성과 원하는 결과를 보장합니다.