판매용 중고 AND ASP-2000X #9409925
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AND ASP-2000X는 광범위한 마이크로 일렉트로닉스 및 광전자 프로세스를 지원하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 제품은 정밀 옵틱, 이미징, 처리 및 제어 모듈로 구성되어 있어 고성능, 비용 효율적인 photoresist 솔루션을 제공합니다. 이 시스템은 두 가지 유형의 노출, 레이저 및 표시등을 제공합니다. 레이저 노출 장치는 193 ~ 400 nm 파장에서 작동하며 단일 노출의 노출 시간은 0.5 ~ 999 초입니다. 이 기계에는 0.5의 수치 조리개가있는 고해상도 플랫 필드 프로젝션 (flat field projection) 옵틱이 장착되어 있습니다. 매우 넓은 지역에서 훌륭한 플랫 필드 조명을 제공합니다. 광 노출 도구는 최대 999 초의 노출 시간을 제공하며 작동 파장 범위는 400 ~ 750 nm입니다. 레이저 자산보다 노출 시간이 짧으며, 고속 프로그래밍 가능한 평면 프로젝터 (flat-field projector) 를 제공합니다. 이 모델에는 노출 과정에서 기판 이동을 허용하는 스캐닝 메커니즘이 포함됩니다. 이를 통해 연산자는 노출이 전체 기판 볼륨에 걸쳐 있는지 확인할 수 있습니다. 스캐닝 동작은 X축, Y축 및 Z축의 세 가지 방향으로 수행 할 수 있습니다. 이 장비에는 이미지 프로세서 (image-processor) 가 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자는 노출 매개변수와 획득한 이미지를 모두 높은 정밀도로 제어할 수 있습니다. 또한 이미지 프로세서 (image-processor) 를 사용하여 노출된 영역의 이미지를 시스템에 기록된 정확한 좌표와 비교하고 불일치가 발견되면 수정 조치 (corrective action) 를 취할 수 있습니다. 이 장치는 다양한 제어 기능을 통합하여 원격 작업 (Remote Operation) 및 제어 (Control) 기능과 데이터 로깅을 제공합니다. 또한 다양한 다른 시스템과 상호 작용하여 최고의 제어 및 유연성 (control AND flexibility) 을 제공합니다. ASP-2000X 포토 esist 머신을 사용하면 리소그래픽 작업에 대한 가장 높은 정밀도 AND 정확도를 제공합니다. 이 도구는 사용자 친화적이며, 빠르며, AND는 다양한 microelectronics AND optoelectronics 어플리케이션을 위한 유연하고 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.
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