판매용 중고 AND ASP-2000X #9373113

AND ASP-2000X
제조사
AND
모델
ASP-2000X
ID: 9373113
웨이퍼 크기: 2"-6"
(3) Coater / (4) Developer systems, 2"-6".
AND ASP-2000X는 RESEARCH AND 산업 응용 프로그램 모두를 위해 설계된 고도의 포토 esist 장비입니다. 빛에 민감한 재료로 만든 광학 이미지 (예: 인쇄 회로 기판, 필름 또는 저항층) 를 "개발" 하여 작동합니다. ASP-2000X는 50 ° m 깊이에 묻힐 수있는 매우 훌륭한 세부 사항을 생성 할 수 있습니다. 이 시스템은 특수 조명 장치를 사용하여 감광 물질, 감광제 및 광활성 화합물로 구성된 감광 화학으로 기질의 표면을 노출시키고 (AND) 코팅 (coat) 합니다. 그런 다음 감광 물질이 빛에 노출되어 이미지를 만듭니다. 노출은 AND 기록으로 제어되며, 사용자는 프로세스를 자체 요구사항에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 빛의 강도 AND 파장은 원하는 해상도를 생성하도록 조정됩니다. 노출이 완료되면 기질은 정렬 스테이션 (alignment station) 을 통과하며, 여기서 기질은 정확하게 등록되고 최대 0.1 초의 정확도 수준을 달성합니다. 노출 된 지역을 없애는 데 특화된 에칭 헤드가 사용됩니다. 에칭 헤드는 기판의 다른 두께를 허용하도록 조정할 수 있습니다. 마지막으로, 기질은 건조기를 통과하여 노출 된 부위를 경화시킨다. AND ASP-2000X의 주요 기능 중 하나는 통합 APC (Automated Process Control) 장치입니다. 이 머신은 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있도록 하며, 사용자가 필요한 경우 노출 기간 동안 프로세스의 조정 및 수정 (adjustment AND corrections) 을 수행할 수 있습니다. 또한, APC 도구를 여러 노출 매개변수를 저장하도록 프로그래밍 할 수 있으며, 자체 학습 (self learning) 을 통해 더 큰 생산 기능에 최적화할 수 있습니다. ASP-2000X (ASP-2000X) 는 뛰어난 이미지 해상도를 제공하며, 높은 정확도와 반복 가능성을 제공하도록 설계된 고급 자산입니다. 통합 APC 모델을 통해 실시간 모니터링 및 제어 (AND Control) 가 가능하며, 사용이 간편한 인터페이스를 통해 해당 분야의 신입생들이 액세스할 수 있습니다. 이 장비는 연구 및 산업 응용 프로그램 모두에 이상적입니다.
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