판매용 중고 AND ASP-2000X #9160836

AND ASP-2000X는 정밀 이미징 및 에칭 프로세스를 위해 설계된 최첨단 포토 esist 장비입니다. 포토리스 트 (Photoresist) 는 기판 표면에 미세하게 상세하고 복잡한 패턴을 만들기 위해 전자 및 광석학 (electronics AND photolithography) 에 사용되는 감광 물질입니다. ASP-2000X는 고급 이미징 기술을 사용하여 매우 정확한 포토 마스크를 생성합니다. 이 포토 마스크 (photomask) 는 에칭 및 기타 프로세스 (etching AND other processes) 를 위한 템플릿 역할을하여 정확한 서피스 패턴을 생성할 수 있습니다. 및 ASP-2000X에는 4K 레이저, 광학 및 탐지기로 구성된 고급 이미징 시스템이 포함되어 있습니다. 이 이미징 장치는 최대 50 nm 해상도의 포토 마스크 (photomask) 를 생성 할 수 있습니다. 이 정밀도는 매우 미세한 AND 복잡한 패턴을 형성 할 수 있습니다. 기계는 또한 기판을 정확하게 배치하는 고해상도 단계를 포함합니다. 스테이지에는 모든 동작을 최소화하는 방진 (anti-vbration) 도구가 포함되어 있어 처리 단계에서 정확성이 보장됩니다. 에셋에는 또한 증기 증착 챔버 (vapor deposition chamber) 가 포함되어 있는데, 이 약실 (captoresist) 과 함께 기판을 코팅하는 데 사용됩니다. 일단 빛 에 노출 되면, 이 "포토레지스트 '는 굳어지게 되어" 에치' 할 본 의 "템플릿 '을 형성 하게 된다. 이 모델에는 여러 가지 다른 처리 구성 요소 (예: 후처리 스테이션 (post-processing station) 에서 기판 및 도량형 스테이션을 청소하여 에칭 결과의 정확성을 확인합니다. ASP-2000X는 복잡하고 정확한 표면 패턴을 만드는 완벽한 솔루션을 제공합니다. 의료 기기, 광전자 및 반도체 제조와 같은 산업에 이상적인 도구입니다. 고급 이미징 및 처리 (Advanced Imaging AND Processing) 기능을 통해 장비는 엄격한 공차와 반복 가능한 결과를 가진 패턴을 만들 수 있습니다. 이를 통해 정확성과 고품질 결과를 보장하여 복잡한 전자 부품을 성공적으로 생산할 수 있습니다.