판매용 중고 AND ASP-2000LX #9375092

AND ASP-2000LX는 마이크로 및 MEMS 컴포넌트의 대용량 생산을 처리하도록 설계된 고급 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 최소 7 초각 크기의 컴포넌트 제작에 사용할 수 있는 최고 수준의 정확성과 반복 성 (repeatability) 을 제공합니다. ASP-2000LX는 최적화 된 듀얼 스테이션 디스펜스 유닛 (dual-station dispense unit) 을 사용하며, 스택 된 디스펜스 헤드 2 개를 관리하여 포토 esist 재료의 정확한 이중 디스펜스를 관리합니다. 이 기계는 또한 회절 제한에 가까운 해상도의 고급 고해상도 이미지가 특징입니다. 8x 및 16x 확대/축소 옵틱을 모두 갖춘 AND ASP-2000LX는 크기가 7äm에 불과한 포토 esist 기능의 세부 이미징을 달성합니다. ASP-2000LX에는 내장 포토레시스트 매개변수 (photoresist parameter) 설정이 내장되어 있으며, 이는 저항 선택을 단순화하며 photoresist 유형을 기반으로 자동 매개변수 로딩을 제공합니다. 이 라이브러리는 또한 미리 프로그래밍된 개발 시간 (development time) 과 같은 다양한 레시피를 저장하므로 사용자가 다른 기판 재료와 제조 매개변수를 빠르게 조정할 수 있습니다. 기본 제공 웨이퍼 정렬 도구는 고해상도 정렬 필드를 사용하여 필요에 따라 포토리스 (photoresist) 패턴을 웨이퍼에 정확하게 배치합니다. 자동 결함 수정 (automated defect correction) 기능을 통해 photoresist 이미지의 초점을 조정하여 결함을 보완하고 이미지를 웨이퍼 (wafer) 에 정확하게 전송할 수 있습니다. 포토리스 처리 도구는 또한 통합 (unified through-prism) 통신을 제공하며, 모든 관련 데이터는 네트워크 통합을 위해 시스템 AND/또는 시스템으로 직접 전송됩니다. 이 기능을 사용하면 photoresist 처리 에셋을 고급 제어하고 photoresist 단계를 모니터링할 수 있습니다. AND ASP-2000LX는 높은 정확도와 반복 성을 가진 컴포넌트의 대용량 생산을 위해 설계되었습니다. 이 포토 esist 모델의 고급 기능 및 (advanced features AND) 기능을 통해 최소 7äm 크기의 마이크로 AND MEMS (micro AND MEMS) 구성 요소를 정확하게 처리 할 수 있습니다.