판매용 중고 AND ASP-2000 #9373108

그리고 ASP-2000은 고급 사진 해설에 사용되는 Nihon TechnoChem에서 제조 한 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 빛, 용매 및 자외선 방사선의 조합을 사용하여 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 와 같은 기판에 패턴을 에치합니다. ASP-2000은 응용 프로그램에 따라 단면 또는 양면 웨이퍼를 사용할 수 있습니다. 오염 물질을 제거하기 위해 비 수성, 극성 및 프로틱 용매의 특별한 조합으로 웨이퍼를 처리함으로써 시작합니다. 이것 은 또한 적용 될 "포토레지스트 '" 코오팅' 이 기질 에 고르게 한다. 웨이퍼가 준비 된 후 ASP-2000은 포토리스 코팅을 적용합니다. 이 장치는 특정 응용 프로그램에 필요한 피쳐 치수에 따라 다른 유형의 포토레시스트 (photoresist) 를 선택할 수 있도록 설계되었습니다. 포토레지스트가 적용되면, 웨이퍼는 생성 중인 모양과 (shapes AND) 패턴에 해당하는 빛의 파장에 노출된다. 빛 은 여러 번 "웨이퍼 '위 로 지나가며, 서로 다른 화학적 성질 을 가진 광저항 층 을 적용 할 수 있게 해 준다. 이 시점에서 웨이퍼는 개발 준비가되었습니다. 응용에 따라, 산소 플라즈마 또는 공기 기반 방법을 사용하여 노출 된 패턴을 포토 esist에 에칭 할 수있다. 이 단계 동안 공기 또는 플라즈마 (Plasma) 는 남은 오염 물질을 제거하고 나중에 더 쉽게 제거 할 수 있도록 포토 esist를 소수화합니다. 마지막으로, 원치 않는 포토 에스트 (photoresist) 는 가열 된 욕조와 화학적 처리의 조합을 사용하여 용해되어 기판에 원하는 패턴을 남긴다. 양면 웨이퍼 (double-sided wafer) 를 처리해야 하는 경우 두 번째 측면에서 동일한 단계가 반복됩니다. ASP-2000은 다양한 응용 프로그램에 사용될 수있는 강력한 AND 다용도 포토리스 (photoresist) 기계입니다. 높은 처리량 (throughput) 기능을 통해 신뢰성이 높아 칩 (chip) 제조업체들 사이에서 많이 선택됩니다.