판매용 중고 ALLTEQ 1520 #9312394

ALLTEQ 1520은 ALLTEQ Materials에서 반도체 제작 프로세스에 사용하기 위해 설계 한 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 무수소 에서 양성음 광사진술가 에 이르기 까지 다양 한" 포토레지스트' 와 협력 하도록 설계 되었으며, 반도체 장치 의 기판 에 저항 하는 얇은 "필름 '을 증착 하고 개발 하는 데 사용 된다. 이 장치는 제어 장치 (Control Unit) 와 여러 하드웨어 구성 요소로 구성되어 있으며, 포토레스 필름 (photoresist film) 을 제작하는 데 필요한 도구와 기능을 제공합니다. 하드웨어 구성 요소에는 필기 챔버, 챔버 개발, 플라즈마 에칭 챔버 및 포토 마스크 홀더가 포함됩니다. 1520 년의 제어 장치 (Control Unit) 는 기계의 고급 제어를 제공하여 노출 시간, 개발 시간, 솔루션 개발, 플라즈마 에칭 시간 등과 같은 매개변수를 정확하게 조정 할 수 있습니다. 또한 제어 장치 (Control Unit) 를 사용하면 프로세스 매개변수를 정확하게 모니터링하여 프로세스가 부드럽고 효율적으로 실행되도록 할 수 있습니다. photoresist 필름을 생성하기 위해 photomask는 photomask 홀더에 먼저 배치됩니다. 다음으로, photomask 홀더는 필기 챔버에 배치되고 기판 위에 배치됩니다. 이어서, 자외선 방사선 을 광막 위 로 지도 하고, 그 기질 을 빛 에 노출 시키고, 광화학 반응 을 개시 하여 기질 에 광염증 "필름 '을 생성 시킨다. 필름이 만들어지면, 포토 마스크 홀더 (photomask holder) 는 개발 중인 챔버로 옮겨지고 할당 된 개발 시간 동안 개발자 솔루션에 잠깁니다. 마지막으로, 포토 마스크 홀더 (photomask holder) 는 기질의 노출 된 포토 esist 영역을 탈취하기 위해 플라즈마-에칭 챔버로 이동된다. ALLTEQ 1520 (ALLTEQ 1520) 은 반도체 제작 공정을 위해 고품질의 포토레스 필름을 생산하는 매우 효과적인 포토리스 스틱 도구입니다. 제어 장치 (Control Unit) 는 프로세스 제어에서 뛰어난 유연성과 정확성을 제공하는 반면, 하드웨어 구성 요소는 사용자가 필름을 빠르고 효율적으로 생산할 수 있도록 합니다. 결합된 1520은 반도체 제작 공정에 이상적인 포토 esist 자산입니다.