판매용 중고 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #293601652

ID: 293601652
웨이퍼 크기: 2"-6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 2"-6" Electro-polished stainless chamber Maximum speed: 2,800 RPM Rinse and dry time: 0-9999 sec On-Board N2 Heater N2 Filter Anti-static cell Resitivity Monitor (RM) SDC-01 Controller Door seal lock Thermo sensor Pressure switch Human Machine Interface (HMI) Pre-heat N2 setting Throughput: 300-2400 Wafer an hour (2") Uptime: >95% Option: Manual door EPO Emergency off switch.
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702는 미션 크리티컬 구성 요소를 처리 할 때 탁월한 정확성과 성능을 제공하는 최첨단 포토리스 시스템입니다. 이 기계는 포토리토그래피 (photolithography) 를 사용하여 정확하게 패턴 화 할 수있는 매우 얇은 포토레시스트 레이어의 자동 증착을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 스피너 모터, 통합 웨이퍼 정렬 기능, 고해상도 디지털 디스플레이 (Digital Display) 는 스핀 코팅 프로세스 동안 포토 esist의 적용을 정확하게 모니터링합니다. 이 장치에는 다양한 DI 및 DC Spiir 소스가 장착되어 있어 각 사용자의 요구 사항을 완벽하게 충족할 수 있습니다 (영문). ASSI SV-702는 완벽한 증착 및 포토 esist 코팅을 보장하는 다양한 기능을 제공합니다. 이러한 기능 중 하나는 정밀 웨이퍼 정렬 (precision wafer alignment) 인데, 이를 통해 웨이퍼 서피스에서 photoresist의 정확한 위치를 지정할 수 있습니다. 이 기계 는 우발적 인 오열 의 기회 를 없애고, 포토레시스트 가 "웨이퍼 '표면 에 균일 하고 정확 하게 적용 되도록 한다. 이 도구는 또한 스핀 속도 (spin speed) 를 월등히 제어하여 사용자가 이상적인 코팅 일관성을 위해 이상적인 스핀 속도를 유지할 수 있도록 합니다. 이 기능 은 광전자 (photoresist) 가 "웨이퍼 '표면 을 가로질러 정확 하게 균등 하게 퍼지게 하여 두께 가 1" 미크론' 이내 로 정확 하게 코팅 할 수 있게 해 준다. 또한 ADVANCED SPIN Asset INC SV-702는 전체 웨이퍼 표면에서 코팅 내에서 뛰어난 균일성을 달성하도록 설계되었습니다. 이것은 이중 흐름 스피너 모터를 사용하여 달성됩니다. 이 "모우터 '는 광전자 를 최적 속도 로 주 의 깊이 그리고 균등 하게 회전 시키는 반면, 정밀 라디에이터 는 열 을 균등 하게 분배 한다. 이로써 광저항 온도는 균일 한 수준으로 유지되어 증착 두께의 균일성 (uniformity of deposition thickness) 을 허용합니다. 이 모델은 또한 다양한 photoresist와의 유연성과 호환성을 제공합니다. 따라서 사용자는 특정 응용 프로그램에 가장 적합한 포토레시스트를 쉽게 선택할 수 있습니다. SV-702에는 고해상도 디지털 디스플레이 (Digital Display) 가 장착되어 있어 코팅 프로그래밍의 정확성과 시각화를 높일 수 있습니다. 전반적으로 ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702는 미션 크리티컬 구성 요소를 처리 할 때 사용자에게 최고의 정확성과 정확성을 제공하는 최첨단 포토리스 시스템입니다. 고급 기능, 와이드 호환성, 고해상도 디지털 디스플레이는 포토레시스트 (photoresist) 처리 요구에 이상적인 솔루션이 됩니다.
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