판매용 중고 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #9156021

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2는 최신 리소그래피 기술을 위해 설계된 포토 esist 스핀 코팅 시스템입니다. 이 장치는 재생성이 뛰어나고 신뢰할 수있는 스핀들 코팅 (spindle coating) 방법과 얇고 두꺼운 필름 포토 esist 개발을 위해 설계되었습니다. 직관적 인 컨트롤 머신을 사용하여 쉽게 사용할 수 있습니다. 이 도구는 스핀 코팅 척 (spin-coating chuck), 포토 esist 디스펜스 모듈 및 통합 플래터 드라이브를 포함한 여러 구성 요소로 구성됩니다. 스핀 코팅 척 (spin-coating chuck) 은 기질 위에 포토 esist의 균일 한 증착을 가능하게한다. 고정 용량은 직경 1 "또는 2" 웨이퍼에서 12 "웨이퍼까지 다양하며 기판은 얇거나 두껍거나 단단하거나 유연할 수 있습니다. 포토레스 디스펜스 모듈 (photoresist dispense module) 은 포토 esist의 빠른 로딩 및 언로딩을 위해 설계되었으며, 스핀 코팅 척 (spin-coating chuck) 으로의 포토 esist의 정확한 분배를 위해 설계되었습니다. 또한 다양한 유형의 photoresist에 적합한 여러 저수지 옵션도 제공됩니다. 내장형 플래터 드라이브는 고속 (high throughput) 애플리케이션에 필요한 빠른 속도를 제공합니다. 고급 토크 제어를 사용하여 정확하고 반복 가능한 결과를 보장합니다. 이 자산은 스핀들 코팅 (spindle coating) 및 개발 작업의 우수한 성능과 반복성을 제공하며, 특히 저용량, 고성능 어플리케이션에 적합합니다. 이 모델은 수동, 반자동 또는 완전 자동 프로덕션 환경에 맞게 쉽게 구성할 수 있습니다. 컴팩트하고 사용이 간편하며, 애플리케이션의 특정 요구 사항을 충족하는 다양한 옵션을 제공합니다 (영문). 또한, 이 장비는 안전을 염두에두고 설계되었으며, 다루기 전에 액체 사진술사를 완전히 제거 할 수있는 지연 열 (delay-heat) 옵션을 갖추고 있습니다. ASSI SV-702 M2는 고품질 포토레지스트 리소그래피 장치 및 포토마스크 편집을 위해 이상적인 선택입니다. 이 제품은 탁월한 성능, 반복 가능성, 안전성을 제공하도록 설계되었으며, 다양한 애플리케이션의 요구 사항에 맞게 조정될 수 있습니다.