판매용 중고 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #9155954

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2 포토 esist 시스템은 나노 미터 스케일 기능이있는 기판의 석판화 처리를 위해 설계된 차세대 마이크로 패브라이션 도구입니다. 온화한 "스핀 온 글라스 (spin-on-glass)" 기술을 사용하여 표면에 다양한 두께의 박막, 빛에 민감한 포토 지스트 코팅을 만듭니다. ASSI SV-702 M2 (ASSI SV-702 M2) 는 정밀도가 높은 풀 엔클로저 유닛으로, 사용자가 주어진 기판에 있는 photoresist 레이어의 두께, 모양 및 크기를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이것은 가변 속도 스피너, 조절 가능한 증착율 및 정확한 노출 챔버를 통해 달성됩니다. 사용자는 함께 모든 재료에서 나노 스케일 기능을 패턴 화 할 수 있습니다. 이 장치 는 질 이 우월 한 재료 로 만들어졌으며, 독점 "하드웨어 '와" 소프트웨어' 는 기판 의 표면 특성 에서 일관성 과 반복성 을 보장 하도록 설계 되었다. 또한 사용자는 자동 자가 검사 기능을 사용하여 배치 된 포토레지스트 두께를 지속적으로 모니터링 할 수 있습니다. 장치의 스핀 가능 홀더 (spinnable holder) 는 스핀 코트 온 글라스 처리를 위해 기판을 정확하게 정렬하도록 설계되었습니다. 이것은 크기와 모양에 관계없이 표면을 가로 질러 균일 한 photoresist 코팅을 보장합니다. 또한 ADVANCED SPIN UNIT INC SV-702 M2 (ADVANCED SPIN Unit INC SV-702 M2) 는 강력하고 확장 가능한 레시피 라이브러리를 갖추고 있으므로 특정 기판에 대한 포토 esist의 코팅을 쉽게 조정할 수 있습니다. 뿐 만 아니라, 이 장치 는 여러 가지 액체 와 다른 물질 들 과 호환 되도록 설계 되어 있는데, 이것 은 표면 에 있는 광저장술자 및 기타 가공 유체 들 의 정확 한 증착 을 가능 케 한다. 그렇다. 전반적으로 SV-702 M2는 나노 스케일 제작에 사용하도록 설계된 최첨단 포토 esist 기계입니다. 고급 기능과 정확한 제어를 통해, 사용자는 다양한 소재와 호환되는 반복 가능하고 균질한 박막 사진술사 코팅 (photoresist coating) 을 달성 할 수 있습니다.