판매용 중고 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #293650591

ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2
ID: 293650591
Spin Rinse Dryers (SRD).
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2는 반도체 웨이퍼 및 기판의 정밀 스핀 코팅을 위해 서브 미크론 수준의 정확도로 설계된 포토 esist 시스템입니다. 이 장치에는 메인프레임, 프런트엔드 컨트롤러, 상위 및 하위 스핀 팬 어셈블리, 사전 설정된 프로세스 매개변수에 대한 웨이퍼 캐리어 및 하위 미크론 정밀도 스핀 코팅이 포함됩니다. 상단 스핀 팬 (Spin Pan) 은 어려운 환경에서도 광저항 증착을 빠른 속도로 정확하게 제어합니다. 폴리에틸렌 상단 팬 (polyethylene top pan) 은 정밀 베어링 어셈블리에 매달려 있으며, 직경이 최대 0.002mm 인 부드러운 회전과 정확도를 제공합니다. 미세 튜닝 스테퍼 모터와 통합되어 정확한 회전 속도와 균일 한 스핀 코팅이 가능합니다. 하부 스핀 팬은 포토 esist 액체를 정확하게 전달하도록 설계되었습니다. 3 축 설계를 통해 증착 경로를 정확하고 미세하게 조정하여 웨이퍼의 정확한 적용 범위를 확보하고 정밀 제어를 달성 할 수 있습니다. 고정밀도 베어링 (high-precision bearing) 과 고급 백엔드 컨트롤러 (advanced back-end controller) 는 평면과 각도에서 액체의 증착을 정확하게 조정할 수 있습니다. 이는 photoresist 레이어의 두께와 균일성을 제어하는 데 중요한 요소입니다. 웨이퍼 캐리어 (wafer carrier) 는 깨끗함을 유지하면서 안전하게 웨이퍼를 고정하고 운송하도록 설계되었습니다. 강하고 가벼운 "알루미늄 '" 프레임' 과 네 개 의 "코너 래치 '는" 웨이퍼' 가 제자리 에 고정 되어 있고 "웨이퍼 '반송파 가 주 장치 에 안전 히 부착 되어 있도록 한다. 정밀 제어 (precision control) 소프트웨어를 사용하면 기계를 쉽게 설치, 조정할 수 있으므로 자동화되고 반복 가능한 작업을 수행할 수 있습니다. 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 와 스핀 속도 (Spin Velocity), 회전 방향 (Spin Direction), 상위 및 하위 스핀 팬 크기에 대한 설정 등 다양한 사용자정의 매개변수가 있습니다. ASSI SV-702 M2는 포토 esist 스핀 코팅 과정을 정확하고 정확하게 제어합니다. 서브 미크론 정밀도 정밀 스핀 코팅을 달성 할 수 있으며, 일관된 코팅 결과를 얻기 위해 타이트한 매개변수를 사용자 정의 할 수 있습니다. 반도체 포토 esist 프로세스 응용 프로그램을위한 비용 효과적이고, 신뢰할 수 있으며, 정확한 도구입니다.
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