판매용 중고 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SH-801 #9242167

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SH-801은 실리콘과 같은 감광 물질에 이미지를 만드는 데 사용되는 포토 esist 시스템 유형입니다. photoresist 단위는 3 개의 조각, 스핀 코터, 광 노출 장치 및 개발자로 구성됩니다. 스핀 코터는 기판 표면에 포토 esist 필름을 적용합니다. 그런 다음 이 "필름 '은 광원 으로부터 빛 에 노출 되며, 그 로 인해 광전물질 이 용해 되지 않게 된다. 이를 통해 기판을 개발자를 사용하여 더 개발할 수 있습니다. ASSI SH-801 (ASSI SH-801) 은 가장 정밀도가 높은 석판 이미지를 생산하는 능력으로 인해 마이크로 파브라이션 및 나노 파브라이션을위한 미세 라인 패턴을 만들기 위해 특별히 설계되었습니다. 최대 코팅 속도 (1000 rpm) 를 제공하여 효율적이고 정확한 필름 적용이 가능합니다. 또한 0.1 rpm의 최소 방사형 속도를 지원합니다. 이는 높은 이진 명암으로 이미지를 만드는 핵심 기능입니다. 포토레시스트 (photoresist) 기계는 다양한 포토 마스크 (photomask) 와 레티클 플레이트 (reticle plate) 를 받아 들여 광범위한 디자인 기능을 만들 수 있습니다. 또한 온도 변화 (temperate variation) 를 견뎌낼 수 있도록 설계되어 온도가 변동하는 청소 환경 (cleanroom environment) 과 환경에 적합합니다. 이 도구는 220Vac로 구동되므로 전력 요구가 용이합니다. ADVANCED SPIN Asset INC SH-801에는 다양한 고급 안전 기능도 포함되어 있습니다. 이 모델은 주위 온도가 정해진 지점에 도달하면 자동으로 종료되며, 일부 EMC 표준을 충족하도록 설계되었습니다. 또한 온보드 레벨 센서 (integrated level sensor) 가 제공되며, 이 센서는 자동으로 코팅 헤드를 조정하여 기울기 또는 고르지 않은 표면을 보완합니다. 전반적으로, SH-801은 감광 물질에 고도의 정밀 석판 이미지를 만들기 위해 효과적이고 신뢰할 수있는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 기능은 정확성과 안전성이 가장 중요한 마이크로 제작 (micro-fabrication) 및 나노 (nanofabrication) 환경에 특히 적합합니다.