판매용 중고 ABM ABM-60 #9222282

ABM ABM-60은 VLSI 회로 제조에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 전자 빔을 사용하여 광 소시스트를 노출시켜 기판에 나노 스케일 패턴 (nano-scale pattern) 을 생성합니다. 전자 "빔 '은" 프로그램' 할 수 있는 디플렉터 '"시스템' 에 의하여 기판 을 통하여 전달 되는데, 이것 은" 빔 '을 x, y 및 z 방향 으로 정확 하게 이동 시키고, 기판 에 상당 한 양 의 전류 를 적용 하도록 제어 할 수 있다. 이를 통해 공차가 매우 단단한 피쳐를 정확하게 패턴화할 수 있습니다. ABM-60 에 사용 된 광전자는 고량의 전자 노출을 처리하도록 특별히 설계되었으며, 제조 과정에서 화학적 에칭 (eching) 과 산화 (oxidation) 에 강하다. 그 에 더하여, 다양 한 "포토레지스트 '재료 들 을 함께 사용 하여 광범위 한" 디자인' 을 만들 수 있다. "포토레지스트 '는 또한 여러 가지 화학 치료법 을 사용 하여 개발 될 수 있으며, 이것 은" 큐링' 시간 을 조절 하고 복잡 한 모양 을 만들 수 있게 해 준다. 또한 ABM ABM-60 (Automated Software Package) 은 자동화된 소프트웨어 패키지를 포함하며, 이를 통해 사용자는 전자 빔의 기능과 매개변수를 처리용으로 장치에 프로그래밍할 수 있습니다. 산업용 사용자가 리소그래피 (lithography) 를 사용자 정의할 수 있는 유연한 플랫폼을 제공합니다. 이 플랫폼은 주기 (cycle) 시간을 줄이고 반복 가능성을 보장하는 데 도움이 됩니다. 또한, ABM-60은 두 가지 기능을 제공하는 진공 챔버 (clean and particle-controlled environment) 를 특징으로합니다. 이 장치는 직경이 최대 8 ", 깊이가 17" 인 기판을 수용 할 수 있으며, 크고 복잡한 회로를 처리 할 수 있습니다. ABM ABM-60은 정밀도가 높은 결과, 자동화된 소프트웨어, 견고한 구조로 인해 VLSI 회로 제작에 이상적인 기계입니다. 우주 항공 (Aerospace) 과 반도체 산업 (Semiconductor Industries) 에서 종종 활용되는데, 이 분야에서는 특성이 매우 정확하게 처리되어야 합니다.