판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS Paradigm #9215196

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm (EATON NOVA/AXCELIS Paradigm) 은 반도체 산업의 웨이퍼 처리에 대한 정확성과 정확성을 향상시키기 위해 설계된 최신 이온 임플랜터 및 모니터링 장비입니다. 그것 은 제조 과정 중 에 "이온 '을" 웨이퍼' 표면 으로 이식 시키고, 그 들 의 증착 과 운동 을 감시 한다. 이 시스템은 고정밀 이온 소스 (high-precision ion source) 와 에너지 컨트롤러 (energy controller) 를 갖추고 있어 이식된 레이어의 특성을 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한 "챔버 '에는 적재 장치 와 정교 한 진공기 가 장착 되어 있어 단기간 에 여러 개 의" 웨이퍼' 를 효율적 으로 처리 할 수 있다. 이온 소스는 선형 가속기 (linear accelerator) 에 의해 구동되며, 다양한 에너지를 달성 할 수 있으며, 그로 인해 더 정확한 임플란테이션 용량이 생성됩니다. 소스는 석영 실린더에 의해 보호되며, 이는 오염을 최소화하는 데 도움이됩니다. 공구의 빔라인 (beamline) 설계는 정전기 디플렉터가 장착 된 포물선 미러 (parabolic mirror) 를 사용하여 대상 영역을 정확하게 스캔합니다. 이것은 웨이퍼 표면에 균등하게 분포 된 정확한 임플란트를 보장합니다. 이 자산은 빔 포지션 모니터 (Beam Position Monitor) 와 잔류 가스 분석기 (Residual Gas Analyzer) 를 사용하여 이식된 레이어를 실시간으로 모니터링할 수도 있습니다. 이러한 측정은 이온 임플란테이션의 정확성을 확인하는 데 사용됩니다. AXCELIS Paradigm 은 반도체 업계의 웨이퍼 처리에 최첨단 정확성과 정확성을 제공합니다. 고정밀도 이온 소스와 함께 정교한 진공 및 로드 록 (loadlock) 시스템, 실시간 모니터링 기능을 제공합니다. 이러한 피쳐를 사용하면 웨이퍼 (wafer) 표면에 균등하게 분산된 레이어를 정확하게 이식하여 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 모델은 웨이퍼 처리 (wafer processing) 의 효율성과 품질을 향상시키려는 사람들에게 귀중한 도구입니다.