판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD-lll #293775726
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ID: 293775726
High current ion implanter
CTI-CRYOGENICS OB-250F (On-Board) Cryo pump
CTI-CRYOGENICS OB-10 (On-Board) Cryo pump
CTI-CRYOGENICS OB-8 (On-Board) Cryo pump
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor
SEIKO SEIKI STPH-2000C Turbo pump
RWA-012J-BE07CBD Chiller
Gases: AR, BF3, Arsine, Pospin.
EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-lll 이온 임플란터 및 모니터는 반도체 제조 산업에서 다양한 재료로 이온을 이식하는 데 사용되는 최첨단 장비입니다. 이온 이식 기술에 대한 전문 지식으로 유명한 2 개의 주요 회사 인 이튼 (EATON) 과 AXCELIS 간의 파트너십으로 설계 및 제조되었습니다. 이온 이식 (Ion implantation) 은 반도체 제조에서 중요한 과정으로, 전기 특성을 변경하기 위해 반도체 웨이퍼 표면에 도판트 이온을 도입하는 것입니다. 이 과정 은 현대 전자 장치 의 기능 에 필요 한 복잡 한 "패턴 '과 구조 를 만드는 데 필수적 이다. AXCELIS NV-GSD-lll 이온 임플란터 (ion implanter) 는 이식 프로세스를 정확하게 제어하여 고도로 맞춤형, 균일 한 도펀트 프로파일을 만들 수있는 고도의 장비입니다. 이 시스템은 붕소, 인, 비소 및 반도체 제작에 일반적으로 사용되는 다른 도펀트 (dopant) 를 포함하여 광범위한 이온을 이식 할 수 있습니다. EATON NOVA NV-GSD-lll 이온 임플란터 (implanter) 의 주요 특징 중 하나는 고에너지, 고전류 기능으로, 가장 발전된 반도체 장치에서도 깊고 정확한 임플랜테이션을 달성 할 수 있습니다. 이 장치에는 정확하고 반복 가능한 이식 결과를 보장하는 고급 빔라인 (beamline) 옵틱 및 제어 시스템이 장착되어 있습니다. NV-GSD-lll 이온 임플란터 (ion implanter) 는 또한 정교한 모니터링 머신을 특징으로하여 운영자가 이식 프로세스를 실시간으로 추적 및 분석 할 수 있습니다. 이 도구에는 에너지 (energy), 전류 (current), 빔 프로파일 (beam profile) 과 같은 이온 빔 특성에 대한 자세한 정보를 제공하는 고급 센서와 검출기가 포함되어 있습니다. 또한, EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-lll 이온 임플란터에는 운영자의 보호 및 처리 중인 반도체 웨이퍼의 무결성을 보장하기 위해 고급 안전 기능이 장착되어 있습니다. 여기에는 이식 과정에서 모든 이상에 신속하게 대응할 수있는 안전 연동 (Safety Interlock), 방사선 차폐 (Radiation Shielding) 및 비상 종료 시스템이 포함됩니다. 생산성 및 효율성 측면에서 AXCELIS NV-GSD-lll 이온 임플란터는 높은 처리량 및 가동 시간을 제공하여 대용량 반도체 제조 환경에 적합합니다. 고급 소프트웨어 제어 (Software Control) 와 결합된 자동 로드 및 언로드 시스템을 통해 반도체 제작 프로세스에 원활하게 통합할 수 있습니다. EATON NOVA NV-GSD-lll 이온 임플란터는 논리 장치, 메모리 칩, 전원 장치 및 기타 반도체 부품의 제작을 포함하여 반도체 제조에서 광범위한 응용 분야에 사용할 수있는 다재다능한 도구입니다. 반도체 제조업체들이 경쟁력 있는 반도체 (반도체) 업계에서 앞서나가고자 하는 것이 유연성과 확장성이다. 결론적으로, NV-GSD-lll 이온 임플란터는 이온 이식 프로세스에서 정밀성, 안정성 및 효율성을 제공하는 최첨단 자산입니다. 이 모델은 첨단 기능 (Advanced Features) 과 기능으로, 현대의 기술 중심의 세계를 강화하는 고급 반도체 (Advanced Semiconductor) 장치를 생산하는 데 중요한 역할을 합니다.
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