판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE #9163722

EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE
ID: 9163722
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
High energy implanter, 8" Wafer type: Notch Vaccum system: Cryo compressor: CTI 9600, CTI 8500 Beamline cryo pump 1: OB8 (P2) Beamline cryo pump 2: OBIO (P3) AMU Turbo pump: TMP1000 (P8) Terminal rough pump: EBARA LINAC Rough pump: EBARA Endstation rough pump: EBARA Vacuum controller: HCIG IG3: Ion gauge Endstation info: (4) Cassettes Dummy wafer: Integrated "Dummy wafer" Fill-In capability Wafer handling system: In-Air / In-Vacuum high throughput Particle filter system: Class 1, UPLA Filtered Implant angle capability: Two axis variable implant angle (+/-11 deg in two axes) (Quad) Process disk spindle: GSD series process disk (installed ) Beam monitoring system: Real-time patented Dose Control Process Disk: Non silicon coated process disk Process disk cooling interlock: Yes Terminal info: Gas box option: Modular gas box / Four string gas box options Extraction PS: 90KV Extraction voltage monitor: Yes Ion source: ELS Type Extraction electrode: (3) Axis extraction electrode (Sen type) AMU system: Triple indexed mass analysis magnet and power supply Injector faraday: Injector flag faraday Dry transformer LINAC and FEM: (10) Power supplies: 3kW 13.56 MHz (10) High energy resonator cavitites and electrodes (5) Upgraded quadrupole lens assemblies and power supplies Resolving faraday: Yes Double indexed final energy magnet (FEM) and power supply: Yes Charge control technology (SEF - Secondary electron flood): No SVR: No Closed-Loop cooling system selection: Cooling system: Sen type Disk chiller: Sen type General Info: Main isolation transformer: Yes Smoke detector: Yes Exhaust flow switch: Yes Light tower: Yes Currently de-installed 2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD-HE는 이온 임플랜터 및 모니터이며, 완전 통합 장비로, 도판트 이온을 반도체 기판에 이식하도록 설계되었습니다. 이 다목적 시스템은 첨단 모니터링 시스템 (HT) 을 사용하여 정확성과 정확성을 보장하여 다양한 이식 프로파일을 제공합니다. 최첨단 이식 (Implantation) 프로젝트의 가장 첨단 기술 요구 사항을 충족할 수 있도록 설계되었으며, 한결같이 고품질 (High-Quality) 교체를 제공할 수 있습니다. AXCELIS NV GSD HE는 I = V 및 펄스 고전압의 두 가지 모드로 작동합니다. 각 응용 프로그램의 최적의 조건은 EATON NOVA NV-GSD HE의 저소음 프리앰프 및 빔 위치 모니터에 의해 결정됩니다. 이러한 모니터는 빔 전류 모니터, 고전압 전원 공급 장치, 이온 질량 분석기 등 다양한 피드백 제어 장치를 사용합니다. 이를 통해 대부분의 Wafer 프런트 엔드 (front end) 작업에 대한 뛰어난 빔 안정성과 빔 제어를 통해 이식 프로파일을 완벽하게 제어할 수 있습니다. 이 장치는 다양한 고급 프로그래밍 옵션을 사용하여 임플란테이션을 정확하게 제어합니다. 이러한 프로그래밍 기능에는 조정 가능한 빔 방향, 전류, 전압, 바이어스 및 에너지 선택과 정밀 고순도 이온 소스의 통합이 포함됩니다. 이온 소스는 별도로 구매됩니다. 또한 디지털 타이밍과 프로그래밍 가능한 아날로그-디지털 변환 (analog-to-digital conversion) 이 포함되어 있어 처리 프로토콜을 빠르고 쉽게 보정할 수 있습니다. EATON NOVA NV-GSD-HE 머신은 종합적인 전자 건강 모니터링 툴 (Electronic Health Monitoring Tool) 과 긴급 종료를 통해 안전성을 염두에두고 설계되어 인력을 방사선 또는 기타 위험으로부터 안전하게 보호합니다. 이 자산에는 빔 간섭 감소 기술과 함께 최고 수준의 충전 및 이온 소스 안정성 (ion source stability) 이 장착되어 있습니다. 내장형 진단 프로그램을 사용하면 처리 오류를 해결하고, 문제를 쉽고 빠르게 파악할 수 있습니다. EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD HE는 적시에 정확한 데이터를 제공하여 사용자가 임플란테이션 결과를 파악하고 필요할 때 조정할 수 있도록 합니다. 고급 프로그래밍 기능은 고품질 이식 결과를 보장하며, 안전 기능은 직원 안전을 보장합니다. 이 모델은 고성능 (High Performance) 과 신뢰성 (안정성) 이 결합된 임플란테이션 (Implantation) 작업에 완벽한 선택입니다.
아직 리뷰가 없습니다