판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE #293615032

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ID: 293615032
웨이퍼 크기: 8"
Ion implanter, 8" Source module: Gas box: Gas line-1: HP(Ar), Tylan Gas line-2: HP (BF3) Gas line-3: MKS, SDS, PH3 Gas line-4: MKS, SDS, ASH3 Isolation transformer: Oil type Injector module: Source type: ELS / Non-vaporizer Extraction electrode type: 3-Axis electrode BOC EDWARDS STP-2000C EBARA 40X20 Dry pump Facilities module: Machine transformer: Dry type Triple loops chiller AFFINITY CWA-300L-VHE-3LP, P/N:10185 AFFINITY RWA-012T-BE03CB Disk chiller (2) CTI Cryogenic 9600 compressors Linac module: Injector faraday (2) LEYBOLD Turbovac 1000C Turbo pumps EBARA 40X20 Dry pump (4) RFG-3000 (6) RFG-3001 FEM Module: FEM Power: EMS:03-165-2-D, P/N:00473110 EMS: 03-165-2-D, P/N:00473110 FEM Guss: P/N:1182890 Endstation Module: 307 Type controller Ion gauge type: Tube glass 4-Axis In-Air controller 4-Axis Robot controller (Macobot controller) 4-Axis Y-Scan controller 4-Axis Cyro controller Universal dose controller Disk module: CTI-CRYOGENIC OB-8 CTI-CRYOGENIC OB-10 CTI-CRYOGENIC OB-250F EBARA 40X20 Dry pump Flag faraday In-Vac arm Wafer holder Gyro Linear drive Disk faraday Resolver faraday Disk model: Si coating Rotary motor type: Belt drive Vacuum cassette elevator type: GRTV Notch finder Dummy cassette Load buffer E/S Elec rack / Quad console module: Quad rack module Quadruple power supply (5) Quadruple power supplies E/S Elec rack module:1178580 Cell controller model: 133, P/N:1191297 Ground DI DI Power conditioner Gyro controller Loadlock controller DEXON / PN:19077660 / Flow hood.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD-HE는 이온 빔 이식 응용 프로그램을 위해 설계된 Ion Implanter 및 Monitor 상태입니다. 이 장비는 반도체 제조 공정에 사용하도록 설계되었으며, 매우 정확하고 안정적인 결과를 내는 고품질 이온 (ion) 을 구현할 수 있습니다. 이 시스템은 고에너지, 고전압 이온 소스 (high-voltage ion source) 및 다양한 고급 기능을 사용하여 작고 잘 정의 된 이온 용량을 정확하고 안정적으로 구현합니다. GSD-HE 장치의 이온 소스는 3 축 자석 구성이있는 높은 신뢰성, 고에너지, 고전압 이온 소스입니다. 이 이온 소스는 최대 2.1 MeV의 펄스 이온 빔 (pulse ion beam) 과 최대 2.3 MeV의 연속 빔 (continuous beam) 을 생성 할 수 있으며 사용 가능한 최고 품질의 이온 임플란테이션을 생성 할 수 있습니다. 이온 소스는 구성이 용이하며, 사용자 입력 설정을 통해 다양한 수준의 이식 깊이, 각도, 에너지를 얻을 수 있습니다. GSD-HE는 또한 다양한 고급 기능을 사용하여 정확하고 안정적인 결과를 보장합니다. 이 기계에는 이온 빔 (ion beam) 용 종합적인 모니터링 도구가 장착되어 있어 빔 강도 (beam intensity), 빔 모양 (beam shape), 에너지 수준 (energy level) 및 이식 된 이온 수 (number of ion) 와 같은 모든 중요한 매개변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이렇게 하면 사용자가 가장 정확하고 신뢰할 수 있는 결과를 얻을 수 있습니다. 이 자산에는 다양한 알람 (alarm) 및 안전 시스템 (safety system) 이 있어 모델을 안전하게 실행할 수 있으며, 이식 (implantation) 및 모니터링 설정 간의 자동 전환을 제공하는 자동 스위칭 기능도 제공됩니다. 이러한 모든 기능 외에도, GSD-HE 장비는 임플란테이션 프로세스의 속도, 정확성, 신뢰성을 높이기 위해 다양한 고급 (advanced) 기능을 제공합니다. 여기에는 더 빠르고, 더 효율적인 임플란테이션 (implantation) 을 가능하게 하는 적응형 스캐닝 시스템 (Adaptive Scanning System) 과 여러 임플란트 (Implants) 를 단일 주기로 프로그래밍하는 기능을 포함합니다. GSD-HE에는 다양한 고성능 제어 및 진단 도구 (예: 향후 스캔을 샘플링하는 FAT 샘플링 도구) 와 내장된 교정 모드 (Calibration Mode) 를 통해 임플란테이션의 정확성과 반복성을 보장합니다. GSD-HE (GSD-HE) 는 신뢰할 수 있는 고성능 머신으로, 사용자에게 다양한 고급 기능을 제공하여 이식 프로세스를 최적화합니다. 다양한 모니터링 및 제어 시스템 (monitoring and control system) 은 경험이 풍부한 사용자와 경험이 부족한 사용자 모두에게 이상적인 선택입니다. 최첨단 구성 요소와 결합된 GSD-HE는 고품질, 신뢰성 있는 이식 결과를 위한 완벽한 선택입니다.
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