판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD-A-80 #9239611

EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-80은 신뢰할 수 있는 정밀 구현 기술과 매우 유연하고 정교한 모니터 시스템을 결합한 고급 고성능 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 이 고유 장치는 다른 시스템보다 빠른 사이클/초 (cycle/second) 및 높은 정확도를 제공하는 반면, 임플란트 범위, 차폐 및 가스 전달에 대한 요구 사항에서 더 많은 유연성을 제공합니다. 이온 임플란터 (Ion Implanter) 는 물질을 반도체 기판으로 이식하는 과정의 첫 번째 단계입니다. AXCELIS NV-GSD-A-80 은 반도체 웨이퍼 기판에 존재하는 정밀 패턴 기능에 대해 매우 정밀한 수준의 이온 임플란테이션을 제공하도록 설계되었습니다. 인성, 비소, 붕소, 안티몬, 갈륨, 도펀트 프리 기질 등 다양한 도펀트를 이식 할 수 있습니다. 이튼 노바 (EATON NOVA) NV-GSD-A-80에는 강력한 자석이 장착되어 있어 빔 아크 각도 (beam arc angle) 와 속도를 주어진 에너지 수준에서 높은 수준으로 제어 할 수 있습니다. 이는 웨이퍼 표면을 가로 질러 최적의 임플란트 깊이와 균일성을 보장합니다. 또한, 고급 냉각기는 열 유발 손상을 최소화하는 데 도움이됩니다. 이온 임플란터 (Ion Implanter) 는 효율적인 작업 절차를 통해 이식 된 재료를 균일하게 배포하도록 설계되었습니다. 또한 빔 방향 정확도를 향상시키기 위해 고급 자기 렌즈 기술을 갖추고 있습니다. 빔 제어는 Total Radiation Defect Control (TRD) 소프트웨어로 관리됩니다. 이 소프트웨어는 임플랜터 도구가 변화하는 기판 컴포지션, 패턴, 깊이에 빠르게 적응하도록 설계되었습니다. 이온 구현 모니터 (Ion Implement Monitor) 는 임플란트 매개변수 및 기판을 실시간으로 모니터링하여 자산이 안정적이고 안전하며 반복 가능한 임플란트를 제공할 수 있도록 합니다. 모니터는 고급 검출기를 사용하여 도핑 레벨, 이방성 (anisotropy), 열 영향, 두께 등 다양한 매개변수를 측정합니다. 이것은 임플란트 결과를 분석하는 데 도움이되며, 석판화 정확성을 보장하는 데 도움이됩니다. NV-GSD-A-80은 안정적이고 효율성이 높은 이온 임플랜터 및 모니터 모델입니다. 이 제품은 정밀 임플란트 (precision implant) 기술, 자기 렌즈 (magnetic lenses), TRD 소프트웨어, 고급 모니터링 기능과 같은 다양한 기능과 기술을 제공하여 높은 정확도와 반복 가능성 수준으로 고성능 임플란트를 효율적으로 생산할 수 있습니다. 결과적으로, 반도체 제작 응용 분야에 이상적인 선택입니다.