판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E2 #9268106

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E2는 최첨단 이온 임플란터이며 마이크로 레벨 이온 프로세스를 정확하게 제어 할 수있는 모니터입니다. 이 장비는 반도체 제조, 생의학 장치 제작, 고사양 노출 (high-end exposure) 기술 분야에 필요한 초고정밀 임플란트를 위해 설계되었습니다. GSD 200E2는 고급 고효율 이온 광학 (cavity ion optics) 과 고압 이온 소스 (ion source) 를 사용하여 높은 처리량뿐만 아니라 미세하게 제어되고 빠른 펄스 작동이 가능합니다. 이 장비에는 임플란트 (Implant) 과정에서 이온 펄스 특성을 추적하는 고급 통합 모니터 (Integrated Monitor System) 도 포함되어 있습니다. 장치의 닫힌 루프 피드백 (closed loop feedback) 을 사용하면 임플란트를 동적으로 제어할 수 있으므로 정확하고 반복 가능한 임플란트가 가능합니다. 또한, 모니터는 이식 된 입자의 농도를 계산하고 로깅 할 수 있으며, 서브 나노 미터 (sub-nanometer) 정확도를 갖습니다. NOVAAXCELIS GSD 200E2는 최적화 된 냉각기를 사용하여 안정적이고 일관된 임플란트를 보장합니다. 이 냉각 도구 (cooling tool) 는 또한 챔버를 가로 질러 가열 및 입자를 줄이는 데 도움이되며, 각 이식에서 원하는 결과가 달성됩니다. 이 자산에는 완전 자동 챔버 클리닝 모델 (fully automatic chamber cleaning model) 과 고속 측정 기능 (high-speed measurement) 을 포함하여 이식 중 안전성을 높이기 위해 설계된 추가 기능도 있습니다. 이 장비는 또한 다양한 매개변수에 대한 데이터를 제공하는 고정밀 (high-precision) 분석 시스템을 갖추고 있습니다. 여기에는 이온 운동 에너지, 에너지 프로파일 데이터 및 실시간 분석이 포함됩니다. 이 단위가 수집한 데이터는 프로세스 개발을 돕고 각 임플란트의 성공에 대한 피드백 (feedback) 을 제공하는 데 사용될 수 있습니다. 전반적으로 AXCELIS NV GSD-200E2는 이온 이식 프로세스를 가장 정확하게 제어하도록 설계되었습니다. 이 이온 임플란터 (ion implanter) 와 모니터 (monitor) 는 최신 기술, 통합 모니터링, 고정밀도 분석 기능을 갖추고 있어 정확한 제어가 필요한 어플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.