판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E2 #9224295

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ID: 9224295
웨이퍼 크기: 8"
High current ion implanter, 8" 180 keV SMIF System: ASYST LPT2200 SMIF Interface capability Hardware configuration (Subfab / Auxiliary units): Cryo compressor Disk chiller Vacuum system: Cryo compressor 1: CTI-8200 (P2) Cryo compressor 2: CTI-9700 (P3) Beam line cryo pump 1: OB 8 ( P2 ) Beam line cryo pump 2: OB 10 (P3 ) No process cryo P9 Source pump: STPA2203C ( P1 ) No AMU Turbo pump Terminal rough pump: EBARA Pump 40x20 ( RP1 ) Endstation rough pump: EBARA Pump 40x20 ( RP2 ) Vacuum controller: HCIG End station: (4) Cassettes Wafer notch alignment: Automatic notch alignment capability with buffer cassette Dummy wafer: Integrated dummy wafer fill-in capability Wafer handling system: In-air / In-vacuum high throughput wafer handling system Particle filter system: Class 1, UPLA filtered wafer handling system Implant angle capability: Two axis variable implant angle (+/- 11 deg in two axes) Quad implant capability Process disk spindle: GSD Series belt drive process disk With active cooling and external close loop chiller Beam monitoring system: In situ beam potential monitor Real-time patented dose control Real-time beam profiler (Single dimension) Process disk: Silicon coated process disk (UHD Small radius fence) Process disk cooling interlock Gas box options: Modular gas box (4) String gas box options High pressure string (2) SDS String hydride (Arsine and phosphine) SDS String flouride (Boron trifluoride) (3) Pressure transducers on SDS string: PSIA Mass flow controller: 1660 Kit (3) 1662 Kits Extraction PS: 0-90 kV Extraction voltage monitor Vaporiser Ion source: Eterna ELS (Extended life source) Source bushing: Extended life bushing Source liner for extended life bushing N2 Purge: Bypass valve and nitrogen purge Extraction electrode 34 Source injection kit AMU System: Triple indexed mass analysis magnet and power supply Post accel PS: 0 -90 kV No post accel electrode Terminal transfomer: Dry transformer Bias aperture assy Flag faraday Charge control technology: Secondary electron flood gun: PEF Closed-loop cooling system selection: Cooling system: Single loop affinity chiller Control UPS Main isolation transformer Abatement system: EGS237 Novapure Smoke detector Exhaust flow switch Water leakage sensor Light tower No real time particle detection system Advanced automation package: SUN SOLARIS Operator workstation: Hard drive, 21" monitor SECS I and SECS II Protocols GEM Interface and ethernet ports CIM Linked Missing parts: Gauss probe / Controller Arm servo motor assemble Wafer handler / Gyro controller Cryo controller interface Cell controller part Extraction electrode board MFC Interface board Source assembly Post stack assembly.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E2는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이러 한 형태 의 장비 는 얇은 막 을 통하여 "이온 '을 기판 이나 표적 재료 에 심는 데 사용 된다. 고속, 고온 이식 (implanting) 을 위해 특별히 설계된 이 장치는 반도체 및 기타 기술 어플리케이션에 적합합니다. AXCELIS NV GSD-200E2는 테트 로드 유형의 이온 소스를 사용하여 2 ~ 200 KeV 범위의 에너지에서 이온을 가속화합니다. 이 유형의 이온 소스 (ion source) 는 매우 넓은 범위의 범위를 가지고 있으며, 이온 빔을 정확하게 배치 할 수 있습니다. 이 장치에는 조정 가능한 1 차 가속 전압이 있으며, 이는 대상 재료의 요구에 맞게 변경 될 수 있습니다. 이 기능은 장치가 일관된 이온 빔을 제공하므로 이온 (ion) 을 가장 균등하게 이식할 수 있습니다. 또한, 이온 소스를 조정하여 다양한 이온 빔 에너지 (ion beam energy) 를 전달하여 대상 재료에 대한 최적의 임플란테이션 깊이를 보장 할 수 있습니다. 이온 이식 과정의 모니터링은 다양한 다른 수단을 통해 수행됩니다. EATON NOVA NV-GSD 200E2에는 디지털 디스플레이가 장착되어 있어 이온 전류, 에너지 수준 등을 정확하게 읽을 수 있습니다. 또한, 장치에는 이온 빔 데이터 레코더 (ion beam data recorder) 가 장착되어 있으므로 모든 이온 임플란테이션 매개변수에서 정확하게 읽을 수 있습니다. 또한, 이 장치는 이온 빔 (ion beam) 매개변수를 실시간 분석할 수 있으므로 운영자가 빔 (beam) 매개변수의 변경 사항에 신속하게 대응할 수 있습니다. EATON NOVA NV-GSD 200E-2는 다양한 이식 환경에서 안전하고 안정적인 운영을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치는 고전압 격리 변압기 (isolation transformer) 로 제조되어 사용자에게 위험한 전기 충격을 방지합니다. 게다가, 이 장치는 저가스 압력 환경을 사용하도록 설계되어, 이식 과정의 안전을 보장합니다. 또한, 이 장치에는 오류 방지 (error-proof) 판독 시스템 (readout system) 이 장착되어 있어 운영자가 임플란테이션 프로세스의 오류를 신속하게 식별할 수 있습니다. 전반적으로 EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD 200E-2는 효과적이고 안정적인 이온 이식 장치 및 모니터입니다. 조정 가능한 이온 소스 (ion source), 다양한 모니터 및 분석 옵션, 다양한 안전 기능을 갖춘 이 장치는 반도체 및 기타 기술 응용프로그램에 이상적인 선택입니다.
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