판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #293817965

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200은 고성능 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 최첨단 도구는 반도체 기판에 이온 종을 정확하고, 안정적이며, 정확한 임플란테이션을 제공합니다. GSD 200 이온 임플란터는 웨이퍼, 그래페, 금속 필름, 나노 와이어 및 기타 나노 구조 재료에 이르기까지 다양한 재료를 처리하도록 설계되었습니다. 이온 임플란터 (ion implanter) 는 사용자 정의 가능한 난방 시스템을 가지고 있으며, 이를 통해 사용자는 효율적인 임플란테이션에 필요한 정확한 온도를 설정할 수 있습니다. 더 높은 전압 기능을 통해 이온 빔 에너지 (ion beam energy spread) 가 큰 나노 구조를 쉽게 처리 할 수 있으므로 이식 정확도가 높습니다. 멀티 존 패러데이 케이지 아키텍처 (multi-zone Faraday cage architecture) 는 외부 전기 및 자기장의 방패를 제공하며 이온 빔에 더 잘 집중합니다. GSD 200 의 모니터 (monitor) 기능은 안정적이고 정확한 프로세스 제어를 제공하여 이식 용량의 프로세스 일관성 및 모니터링을 향상시킵니다. 모니터는 들어오는 이온 빔의 미묘한 변화를 감지하여 이식 용량의 정밀도를 제공합니다. GSD 200 제어 인터페이스에는 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphic User Interface), 매크로 프로그래밍 (Macro Programming) 및 다양한 반복 프로세스 스크립트와 같은 고급 기능이 있습니다. 임플란트 (Implantation) 프로세스에 대한 총체적인 제어를 통해 효율성을 높이고 임플란트를 신속하게 전달할 수 있습니다. GSD 200은 또한 우수한 플라즈마 균일 성과 저에너지 스프레드 제어를 제공합니다. 뛰어난 빔 온 타임 규제와 이온 빔 방향 제어가 있습니다. 또한 사용자는 시스템을 구성하여 물리적 배열 (Physical Arrangement) 또는 진공 (Vacuum) 환경에서 수차를 보상할 수 있습니다. GSD 200은 사용자에게 다양한 이식 프로세스에 대한 턴키 솔루션을 제공합니다. GSD 200 은 견고한 설계, 폭넓은 적용 능력, 고급 제어 기능을 통해 이온 이식 (ion implantation) 및 모니터링을 선호합니다.