판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #293646149
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판매
ID: 293646149
웨이퍼 크기: 6"
Ion implanter, 6"
Transformer
Injector:
Bernase ion source with dual vaporizer
Single stage extraction, 15-40 kV
Dipole magnet, 90°
Target postioning / scanning system:
Parallel beam
Electrostatic angle correction
Programmable tilt, 0°-60°
Endstation:
Electrostatic silicon wafer chuck, 6"
Flat / notch alignment with buffer cassette
3-Axis robotic pick and place system
Vacuum system:
LEYBOLD HERAEUS TMP 1000C
LEYBOLD HERAEUS TMP 600C
LEYBOLD HERAEUS TMP 151C
CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr, 8"
(3) Turbo controllers
Roughing pump:
LEYBOLD HERAEUS D40B Rotary vane
LEYBOLD HERAEUS D40BCS
EDWARDS iQDP40 Dry pump
EDWARDS EH250 Blower
Gas bottle enclosure:
MFC
VCR Fittings
Does not include: Chillers, Helium compressor.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P는 마이크로 전자 제조 산업에 사용되는 고급 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 이 시스템은 매우 정확하고 정밀한 장치 구조 (device structure) 를 만들도록 설계되었으며, 이는 오늘날 점점 더 복잡한 전자 부품에 매우 중요합니다. AXCELIS NV-8200P 이온 임플란터 (ion implanter) 는 프로세스 처리량을 높이고 정확도를 높이도록 설계된 확장 가능한 플랫폼을 기반으로 구축되었습니다. 빔라인 (beamline) 기술에 최신 기술을 통합하여 저손실 에칭 및 균일 한 임플란트 분배를 달성합니다. 단순화된 빔라인 (beamline) 설계는 또한 가동 중지 시간을 줄이고 장치의 수명을 늘리는 데 도움이됩니다. EATON NOVA NV 8200 P는 임플란트 각도 및 깊이 제어가 가능하여 이식 프로세스에서 더 큰 유연성과 정확성을 제공합니다. 다른 용량 수준 (dose level) 뿐만 아니라 다양한 재료를 이식하는 데 사용될 수 있습니다. 또한 빔 전류 (beam current), 이온 에너지 (ion energy), 가속 전압 (acceleration voltage) 및 방향 (directions) 과 같은 다양한 프로세스 매개변수를 제공하여 가장 유연한 임플랜터 시스템 중 하나입니다. EATON NOVA NV 8200P 모니터는 in-situ 빔 추출 메커니즘을 사용하여 사용자에게 실시간 피드백을 제공합니다. 기계는 임플란트의 증착율, 이온 범위, 반사 두께, 빔 전류 및 에너지를 측정하여 사용자에게 프로세스에 대한 더 큰 제어 권한을 부여합니다. 또한 임플란테이션 중 제품 손상을 방지하는 중요한 이벤트를 감지 할 수 있습니다. AXCELIS NV 8200P 는 업계 최고의 이온 임플란터 (ion implanter) 및 모니터 툴로서, 마이크로일렉트로닉스 업계를 위한 장치 구조를 만드는 데 있어 탁월한 정확성과 반복성을 제공합니다. 첨단 기능, 견고한 설계를 통해 고품질 (HA) 컨트롤을 통해 고품질 (HA) 제품을 만들 수 있는 최적의 선택이 가능합니다.
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