판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #293587241

EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P
ID: 293587241
웨이퍼 크기: 8"
Implanter, 8" Dose 2 Block 3.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P는 반도체 제조 작업에 사용되는 고급 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 다양한 내장형 센서와 모니터를 갖춘 고정밀 DC 기반 이식 장비로, 정확하고 반복 가능한 이온 임플란테이션이 가능합니다. 다양한 임플란트 매개변수 (Implant Parameter) 와 프로세스 규칙 (Process Rules) 을 설정할 수 있는 기능을 갖춘 이 시스템은 비용 효율적인 우수한 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치는 0-90kV 가속 전압 범위와 최대 350mA (전류) 의 고급 다중 듀티 소스를 특징으로하며, 붕소, 인, 비소와 같은 가벼운 이온과 갈륨, 티타늄, 인듐과 같은 무거운 이온을 모두 이식 할 수 있습니다. 정확한 결과를 제공하기 위해 임플란트 분포 (Implant Distribution) 및 용량 속도 (Dose Rate) 의 시간 의존 프로파일을 측정하기위한 광범위한 스캐닝 채널과 프로세스 안정화를 위한 온도 감지 프로브 (Tempersing Probe) 를 포함하여 일련의 현장 모니터와 센서가 장착되어 있습니다. AXCELIS NV-8200P 에는 다양한 자동화 및 제어 기능이 포함되어 있어 프로세스 매개 변수를 세밀하게 조정하고 최적화할 수 있습니다. 예를 들어, 프로세스 제한을 설정하고 모니터링하고, 빔 강성과 에너지를 조정하고, 빔 흔들림 (beam wobble) 과 비선형 (non-linearity) 을 보완할 수 있습니다. 또한 임계 용량 속도 (critical dose rate) 를 빠르게 측정하고 바이어스 오류를 감지하고 수정 할 수 있습니다. 또한 Control Machine 은 직관적인 원터치 (one-touch) 사용자 인터페이스를 통해 현재 프로세스 조건과 에너지 수준, 툴 상태, 실행할 레시피 등 다양한 정보를 제공합니다. 또한, 이 자산에는 주기 시간 단축, 제품 수율 향상을 위한 완벽한 프로세스 최적화 툴, 문제 해결을 위한 완벽한 유지 보수/진단 툴 (Maintenance/Diagnostic Tools) 이 포함되어 있습니다. 전반적으로, EATON NOVA NV 8200 P는 강력한 프로세스 제어를 제공하면서 정확하고 반복 가능한 결과를 제공하도록 설계된 고급 다용도 이온 임플란터 및 모니터입니다. 직관적인 사용자 인터페이스와 완벽한 자동화/제어 (automation/control) 기능이 제공되어 반도체 제작 애플리케이션에 적합합니다.
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