판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200A #293628042
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ID: 293628042
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1990
Implanter, 6"
Energy: 5 to 200 kV
Accel PS: 180 kV
Extraction: 20 kV
Neutral gas: Argon
Hot source with oven
(3) Gas box lines with mass flow
(2) External gas box lines
Extraction housing
Magnet range: 125 Standard voltage
Dose uniformity and repeatability: 1 σ < 0.5%
Type: Dual platen, continuous through put, cassette to cassette
Fully automatic, pick and place
Throughput: 250/hr
Wafer tilting: 0 To 10°
Wafer orientation: 0 To 360°
Wafer breakage: Less 1 wafer out of 20000
Cooling water: 3 GPM with 80°F
Input temperature: 30 - 60 PSI
Compressed air supply: 90 - 125 PSI
Dry nitrogen: 60 - 70 PSI
Heat dissipation:
Air: 16750 BTU/hr
Water: 49000 BTU/hr
Exhaust air volume:
Gas box: 300 CFM (minimum)
H.V Terminal: 300 CFM (minimum)
Power: 24 kVA, 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz
1990 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200A는 Ion Implantation의 정확하고 정확하며 안정적인 처리를 제공하기 위해 만들어진 고급 Ion Implanter and Monitor입니다. 이를 통해 사용자는 이온 종, 용량, 에너지 범위에 관계없이 최대 제조 성능을 가질 수 있습니다. AXCELIS NV 6200A는 Ion Implantation 분야에서 최고의 장비 중 하나입니다. EATON NOVA NV-6200A의 디자인은 성공에 큰 역할을합니다. 이 기계는 가열되고, 자체 청소되고, 석영 진공 장비를 갖추고 있으며, 비활성 가스 및 다이오드 기술에 맞게 조정되어 있습니다. 초고진공 (UHV) 버전은 초저에너지 탄화수소 이온에 이상적입니다. 이 기계는 또한 독점적 인 Radial Field Technology를 사용하여 매우 균일하고 멀티 포인트 이식 프로파일을 달성 할 수 있습니다. 또한 EATON NOVA/AXCELIS NV-6200A는 다양한 반도체 프로세스를 수용하여 복잡한 이식 실행에서 유연성을 높입니다. AXCELIS NV-6200A에는 닫힌 루프 피드백 및 제어가 가능한 내장형 모니터도 있습니다. 이 시스템을 사용하면 실시간 조정 및 보정을 위해 입자 빔 전류, 압력, 가스 흐름을 모니터링할 수 있습니다. 또한, 모니터는 나노미터 (nanometer) 수준까지 안정적인 작동을 제공하기 위해 다양한 장치 상태를 진단하고 예방 유지 관리 (preventive maintenance) 를 허용할 수도 있습니다. 이를 통해 사용자는 프로세스 조건을 tip-top 모양으로 유지하여 Nuclear Resonance (핵 공명) 분석을 가능하게 할 수 있습니다. 전반적으로, NV 6200A는 가장 복잡하고 고급 반도체 처리 요구 사항을 처리 할 수있는 강력하고 신뢰할 수있는 장비입니다. 이를 통해 사용자는 다양한 이온 종, 용량, 에너지를 사용하여 정확하고 정확한 이식 프로세스를 달성 할 수 있습니다. 이 기계는 Radial Field 기술 (Radial Field Technology) 과 통합 모니터링 시스템 (Monitoration Machine) 을 활용하여 구성 성능이 극대화되고 여러 프로세스가 성공적으로 완료되도록 지원합니다.
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