판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 3206 #9375644

ID: 9375644
웨이퍼 크기: 4"
Ion implanters, 4".
EATON NOVA/AXCELIS NV 3206은 반도체 제조에 사용하도록 설계된 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 그것 은 "실리콘 ', 단결정, 화합물" 반도체' 장치 를 포함 하여 광범위 한 응용 을 위한 "이온 '착상 을 할 수 있다. AXCELIS NV 3206 시스템은 특정 이식 응용 프로그램을 위해 사용자 정의 할 수있는 3 축 이온 빔 조향 장치를 포함하여 광범위한 이온 이식 기술을 사용합니다. 이 3 축 장치를 사용하면 전압, 빔 스팟 크기와 같은 이온 빔 매개 변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. EATON NOVA NV 3206에는 2 개의 이산 이온 소스, 이온 빔 현미경 및 적재 냉각 웨이퍼 캐리어가 포함됩니다. 또한, 정상 상태 이온 빔 작동을 위해 냉각기를 사용하여 장치를 구성 할 수 있습니다. 이온 빔을 웨이퍼 위치에 정확하게 맞출 수 있도록 정교한 컨트롤 툴 (Control Tool) 과 이식 프로세스를 모니터링할 수 있는 고속 카메라 (Camera) 를 갖추고 있습니다. 자산의 제어 소프트웨어 (control software) 는 특정 프로세스의 요구에 맞게 쉽게 구성할 수 있습니다. NV 3206 모델에는 이온 이식 (ion implantation) 프로세스를 정확하게 제어 할 수있는 정교한 모니터 프로그램도 포함되어 있습니다. 이 프로그램은 임플란트 깊이 (implant depth) 및 산화물 필름 두께 (oxide film thickness) 와 같은 임플란트 매개변수를 측정하고 표시하며 오류 시 경보 신호를 제공합니다. 이 프로그램은 또한 웨이퍼 서피스 (wafer surface) 와 벌크 매개변수 (bulk parameters) 를 기록하는 데 사용될 수 있으며, 이식 과정을 빠르고 정확하게 분석 할 수 있습니다. 이 장비에는 사용이 간편한 GUI (Graphical User Interface) 가 장착되어 있어 시스템을 편리하게 프로그래밍할 수 있습니다. GUI에는 직관적인 드래그 앤 드롭 (drag-and-drop) 기능이 포함되어 있어 작업 및 프로세스를 신속하게 정렬할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 임플란트 결과를 쉽게 시각화할 수있는 데이터 디스플레이 머신 (data display machine) 과 이식 프로세스의 실시간 추적 기능을 보고하는 기능이 포함되어 있습니다. 안전하고 안정적인 운영을 위해 EATON NOVA/AXCELIS NV 3206 툴에는 안전 자산이 내장되어 있습니다. 이 모델에는 모든 관련 장비 매개변수를 모니터링하고 제어하는 압력 센서, 온도 센서, 빔 차단 시스템 (beam shutoff system) 이 포함됩니다. 또한, 시스템에 자동 모니터링 장치가 포함되어 있어 원치 않는 방사선 소스를 감지합니다. 요약하자면, AXCELIS NV 3206 ion implanter and monitor machine 은 사용이 간편한 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 와 정교한 모니터 프로그램을 통해 이온 빔 매개변수를 정확하게 제어할 수 있도록 설계되었습니다. 또한 안전하고 안전한 작동을 보장하기 위한 다양한 안전 시스템 (Safety System) 이 포함되어 있으며, 광범위한 반도체 장치의 효율적이고 정확한 임플랜테이션을위한 이상적인 솔루션입니다.
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