판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9227038

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ID: 9227038
Implanter Specifications: System characteristic / Design specification (1978) / Performance specification (1982) Energy / 10-60 keV / 5-80 keV Beam current P,As 60-80 keV / 10 mA / 12.5 mA 40 keV / 10 mA / 10.0 mA Sb 40-80 keV / 5 mA / 6.0 mA B 40-80 keV / 5 mA / 4.0 mA Throughput P,As Up to 3E15, 3" / 300 / 235 100 mm / 200 / 350 125 mm / - / 175 1E16, 3" / 150 / 190 100 mm / 100 / 125 125 mm / 70 / 88 B up to 1E15, 3" / 300 / 330 100 mm / 200 / 230 125 mm / 150 / 165 1E16, 3" / 80 / 80 100 mm / 50 / 50 125 mm / 30 / 33 Doping uniformity: 1σ across wafer, 5" / 0.75 / 0.5 Doping reproducibility: 1σ wafer to wafer / 0.5 / 0.5 Ion mass range / 1-150 / 1-130 Ion mass resolution M/∆M fwhh / 65c / 75 Wafer cooling / 140°C @ 600W / 100°C @ 1200W Facilities requirements: Power: 30 kVA Air: 100 PSI, 4 cfm N2: 5 PSI, 0.14 cfm H2O: 40 PSI, 5 gpm Exhaust: 1000 cfm 2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80 이온 임플란터 및 모니터는 이온을 기판으로 이식하도록 설계된 강력하고 신뢰할 수있는 장치입니다. 이 장치는 붕소, 비소, 인, 안티몬, 황 등과 같은 광범위한 이온을 이식 할 수 있습니다. 공정 을 정확 히 제어 하고, 쉽고 정확 한 작업 을 촉진 하는 여러 가지 구성 요소 들 이 갖추어져 있다. AXCELIS NV 10-80은 wafer stage, ion source 및 monitor의 세 가지 주요 부분으로 구성됩니다. 웨이퍼 스테이지 (wafer stage) 는 이온을 정확하고 반복 할 수있는 이온의 위치를 제어하는 데 사용된다. "마그네트론 '음극 과 전자 총 으로 구성 된" 이온' 원 은 "이온 '을 기판 을 향해 생성 하고 가속 시키는 데 사용 된다. 고체 검출기로 구성된 모니터는 이온 플럭스 (flux) 를 측정한다. EATON NOVA NV 1080은 이식 프로세스를 자동화하는 컴퓨터 제어 시스템을 사용하여 작동합니다. 이온 유형, 이온 에너지, 이온 스트라이크 속도, 용량 수준, 웨이퍼 위치와 같은 많은 매개 변수를 제어 할 수 있습니다. 이는 정확한 이식 결과를 보장하며, 사용자가 이식 효율성과 정확성을 최적화할 수 있도록 합니다. 또한 인터 록 (interlock) 및 전원 수준 제한을 포함한 안전 기능도 갖추고 있습니다. NV 1080은 반도체 제조, MEMS, LED, 광전자 및 생의학 처리를 포함하여 광범위한 응용 분야에서 사용하도록 설계되었습니다. 실리콘, 알루미늄, 아연, 텔루륨, 티타늄 등 다양한 재료와 호환되며, 다양한 임플란테이션 각도가 있습니다. EATON NOVA NV 10-80은 우수한 이식 결과를 제공하는 안정적이고 강력한 장치입니다. 자동화된 컴퓨터 제어 시스템 (computer-controlled system) 은 정확하고 정확한 임플란테이션을 보장하며, 다양한 기능을 통해 사용자가 임플랜테이션 효율성과 정확성을 최적화할 수 있습니다. 그것 은 매우 다양 한 용도 와 기판 재료 에 적합 하기 때문 에, "이온 '착상 에 있어서 다재다능 하고 매우 적합 한 장치 이다.
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