판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9183991
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ID: 9183991
High current ion implanter
Standard beam controller
Kaiser HVPS
Bernas ion source
With AT4 autoloader (*non-functional)
Includes data flow option
SDS and high pressure (SDS B11 and PH3)
High pressure Ar
6” Clampless (150 mm Set up)
Vac exchange arm
(2) Disks
80 KeV Max
Kaiser high voltage power supply
Vaporizer: Yes
Cryo pumps: (2) CTI 8 standard + compressors
(4) Gas high pressures
Disk exchange arm type: Vacuum
Analyzer power supply: EMI Type
Pumps: (2) LEYBOLD D40 B (RP3, 4)
Electronics (CPU Software / PCB Type):
Vac controller: VAC 733 (101 MB)
Dose controller: 796 Rev. E (101 MB)
AMU Controller: AMU618 C (101 MB).
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80은 안정적이고 정확한 펄스 이온 임플랜테이션을 제공하도록 설계된 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 자동화 및 정밀 제어를 통해 특허를 획득한 최적화된 빔라인 설계를 갖추고 있습니다. 장비에는 고급 빔 제어 모듈 (beam control module) 과 프로세스 제어 소프트웨어 (process control software) 가 있어 공정 조건에 따라 효율적인 가스 흐름 제어, 변위 제어 및 빔 전류 조절이 가능합니다. 이 시스템은 또한 컴팩트한 공간 절약 (Space Saving) 설계를 갖추고 있으며, 설치 및 설정 작업을 중단할 수 있습니다. AXCELIS NV 10-80 은 Pulse Rate, Pulse Shape, Pulse Duration 및 Pulse Current와 같은 뛰어난 빔 특성으로 인해 우수한 이온 임플란테이션 성능을 제공합니다. 이식 효율이 매우 높아 웨이퍼에 이식되지 않은 이온 (ion) 의 양을 줄이고, 따라서 수확량을 늘리고 비용을 줄일 수 있습니다. 이 장치에는 또한 독점적 인 실시간 임플란터 (Real-Time Implanters) 자체 진단 기능이 있으며 이식 전이나 이식 중에 빔 불규칙성을 감지 할 수 있습니다. EATON NOVA NV 1080은 완벽하게 통합된 모니터링, 측정 및 제어 기능을 제공합니다. 기계의 모니터 패널에는 속도, 압력, 용량, 전류, 임플란트 위치 등 중요한 모든 정보가 표시됩니다. 이 도구에는 자동 챔버, 빔, 웨이퍼 스캔 기능, 웨이퍼 회전, 포커싱 및 정렬 기능도 있습니다. 이를 통해 사용자는 이식 용량을 정확하게 제어하고 빔 매개변수를 최적화 할 수 있습니다. NV 10 ~ 80 은 사용이 간편하고 유연하며, 다양한 경험 수준을 가진 운영자가 사용할 수 있습니다. 중소, 성장, 중견 기업, 성장, 중견 기업, 성장, 중견 기업, 대기업 애플리케이션에 적합한 높은 수준의 프로세스 제어 능력, 생산성 및 생산성을 제공하는 경제적인 솔루션입니다. 자산은 또한 유지 관리가 쉽고 장기적인 신뢰성을 제공 할 수 있습니다. AXCELIS NV 1080 은 가장 높은 안전 (Safety) 및 품질 (Quality) 표준을 충족하도록 설계되었으며, 장기간 높은 성능을 유지할 수 있습니다. HAS (HAS Compliant) 이며 품질, 안전, 신뢰성과 관련하여 가장 까다로운 업계 표준을 충족하도록 설계되었습니다.
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